高純鎢材製備工藝改良

在微電子行業,隨著超大型積體電路向輕、薄、短、小、高性能方向發展,晶片向高集成度、高頻率、超多I/O端子數方向發展,迫切需要提高封裝密度。為滿足這些要求,大型積體電路的三維立體佈線技術應運而生。而鎢具有良好的導電性、逸出功近於矽的頻帶隙及優良的熱穩定性,並且與矽結合性良好,而被廣泛應用於積體電路的柵極材料和佈線材料。

高纯钨材图片

通常來說,這類應用所需的鎢材料要求具有非常高的純度,也稱之為高純鎢。在我國製備高純鎢材主要有兩種方法:一是以鎢條為原料,採用電弧熔煉、電子束熔煉和區域熔煉技術提純鎢金屬,雖然產品純度較高,但是對裝備依賴度高、批量小、成品率低、成本高,難以形成規模化生產。二是採用鎢粉末冶金方法生產,在壓制成型過程中要添加含碳有機物的粘結劑,雖然在後續的燒結過程中通過高溫處理,可以去除絕大部門粘結劑。但此過程增加了碳含量的污染,且生產過程中的除雜效果一般,鐵(Fe)、氧(O)、碳(C)等雜質含量高,難以滿足超大型積體電路用鎢材的品質要求。

針對鎢粉末壓制燒結存在的缺陷,贛州虹飛改進創新了原有傳統工藝,使製備方法能有效降低鎢材中鐵、氧、碳等雜質含量,同時提高鎢含量,且鎢材密度高、產品使用性能穩定,以滿足超大型積體電路用途。該工藝需要經過七道工序。(注:本文介紹工藝涉及贛州虹飛鎢鉬公司相關專利)。

1、氫氣還原,將藍色氧化鎢通過五帶溫區還原爐,在還原溫度為600~950℃,氫氣流量為4.0~6.0m3/h,氫氣露點≤‑60℃,推速為20~25min的工藝條件下調整裝舟量,裝舟量分別為280±5g、330±5g、380±5g、430±5g、480±5時,制得費氏細微性為2.0±0.2μm、2.5±0.2μm、3.0±0.2μm、3.5±0.2μm、4.0±0.2μm的鎢粉;

2、酸洗除雜,將以上各細微性鎢粉分別用電阻率>1.0×105Ω·cm的去離子水攪拌洗滌30~35min,停攪拌澄清後,抽去上清液,加入濃度4~5%的鹽酸,攪拌洗滌45~50min,停攪拌澄清,抽去上清液,再用電阻率>1.0×105Ω·cm去離子水清洗至pH值>3為止,鎢粉經真空過濾,置於70~90℃的真空烘乾箱內乾燥24~30h,並經160~200目篩篩分; 

3、、配粉,將酸洗除雜後的各細微性鎢粉,按從小到大的順序,比例為8~10:18~20:36~40:18~20:8~10,配合成費氏細微性為2.9~3.2μm的鎢粉,在混料機中混合25~30min;

4、成形,將上工序得到的粉料,用常規技術在15~25MPa壓力下模壓成形,制得純鎢坯條;

5、預燒結,純鎢坯條置於鉬舟內,在氫氣露點≤‑70℃,溫度1200~1400℃下燒結30~50min;

6、高溫燒結,預燒結後純鎢坯條置於垂熔罩內,在露點≤‑70℃的氫氣保護下高溫燒結,燒結制度為二段升溫、二段保溫,電流/時間參數為升溫:(0‑3200A)/15min、保溫:3200A/15min、升溫:(3200‑4150A)/2min、保溫:4150A/20min; 

7、切斷脫氣處理,將高溫燒結所得純鎢條切斷成20~50mm,裝入鉬舟,置於溫度為1600±50℃剛玉管電氣爐中,在氫氣露點≤‑70℃,保溫時間為3~5h下脫氣處理,得到高純鎢材。

上述製備高純工藝優勢在於:1、無需再購設備,常規設備即可進行工藝處理;2、成形過程不添加任何粘結劑,所得產品純度高、消耗低,適合於規模化生產。

 

 

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