沉積時間對於摻雜鎢絲電鍍鉻工藝也具有很大的影響。以下在固定電流密度為8-10A/d㎡，電解液溫度為55℃的基礎上，分析鍍層厚度與電鍍時間的關係。

表1-1  電鍍時間對鍍層厚度的影響

從以上表格數據可以看出，鍍層的厚度與沉積時間成正比關係，電鍍3h即可獲得厚度不低於90μm的鍍鉻層。試驗中還發現，電鍍3h的鍍層光亮，緻密；但當電鍍時間超過3h後的鍍層表面光亮度變差，這可能是因為隨著電鍍時間的增加，鍍液靠近陰極部分的pH值升高，形成了一些鉻的氫氧化物的緣故。因此，沉積時間選擇3h為宜。
 

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摻雜鎢絲電鍍鉻工藝，除了受到溫度因素的影響之外，還受到電流密度因素的影響。以下在固定電解液溫度為55℃，電鍍時間為3h的基礎上，分別在不同陰極電流密度下進行電鍍，從而進一步分析得到的鍍層厚度與電流密度的關係。

表1-1電流密度對鍍層厚度的影響

一般來說，電鍍時，在其他工藝條件相同的情況下，隨電流密度增大，鍍層厚度不斷增加，即陰極沉積速率不斷增大，但表面品質變差。從以上表格數據可以看出，隨著電流密度的升高，鍍鉻溶液陰極效率增加，電流密度在8-10A/d㎡範圍時，陰極沉積速率增加較快；電流密度在10-14A/d㎡範圍內，陰極沉積速率增加緩慢；當電流密度大於14A/d㎡時，陰極沉積速率增加很快。試驗中還發現，當電流密度低於8A/d㎡時，鍍層色澤較暗；當電流密度大於10A/d㎡時色澤由光亮過渡到乳白色；當電流密度處於8-10A/d㎡範圍內，可獲得光亮、緻密且保證一定厚度的鍍層。因此，應將電流密度控制在8-10A/d㎡。
 

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摻雜鎢絲電鍍鉻工藝是以摻雜鎢絲作為陰極，經過電鍍後，摻雜鎢絲表面可獲得100μm的金屬鉻鍍層，且鍍層表面光亮，耐蝕性與摻雜鎢絲之間的結合力良好。在此電鍍過程中受到一定因素的影響，以下主要介紹影響因素-溫度。

溫度是電鍍工藝中一個重要的參數，在摻雜鎢絲表面鍍鉻，固定電流密度為8-10A/d㎡、電鍍時間為3h，以下通過表格數據分析溫度對摻雜鎢絲電鍍鉻工藝的影響：

從以上表格數據可以看出，當溫度＜45℃時，鍍層的厚度隨溫度的升高而增加；當溫度為45℃時，鍍層厚度達到最大值；當溫度大於45℃時，鍍層厚度隨溫度的升高問減小，這主要是由於隨溫度的升高，雖然有利於提高電流效率和高電流密度區覆蓋能力，但是鍍鉻溶液的陰極效率會降低。此外，溫度對鍍層外觀及品質也會產生很大的影響。溫度低時，電結晶過程較慢，陰極極化較大，有利於提高鍍層結晶細緻程度，但色澤較暗；溫度高時，陰極極化較小，鍍層表面較疏鬆，呈乳白色。

綜合考慮溫度對鍍層表面品質和鍍層厚度的影響這兩方面因素，為了獲得光亮、緻密的鍍層，同時保證鍍層有一定的厚度，應將電鍍溫度控制在55℃為宜。
 

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電鍍鉻在電鍍工業中佔有極其重要的地位，鍍鉻層不僅可以作為裝飾性鍍層還大量用於功能性鍍層。摻雜鎢絲是製作鎢加熱子的主要材料，鎢加熱子主要用作制鏡、顯像管、玩具、家用電器外殼及各種裝飾品等的表面真空鍍膜加熱元件。在鎢絲表面電鍍鉻，可提高真空鍍鉻時鍍層的均勻性，從而提高該加熱子的性能。

摻雜鎢絲電鍍鉻時要求摻雜鎢絲表面的鍍鉻層光亮、緻密、厚度不小於100μm，該電鍍鉻的電解液為鉻酐150-180g/L，硫酸15-18g/L，稀土添加劑0.5-1.5g/L。在此配方的基礎上分別設定所需的溫度設置為55℃、電流密度為8-10A/d㎡、電鍍時間為3h，摻雜鎢絲作為陰極，經過電鍍後，摻雜鎢絲表面可獲得100μm的金屬鉻鍍層，且鍍層表面光亮，耐蝕性與摻雜鎢絲之間的結合力良好。


 

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近年來，塊體金屬玻璃由於具有很高的屈服強度和彈性極限等優異的力學性能而成為結構材料領域的研究熱點。然而金屬玻璃複合材料在溫室承載時都是通過局域剪切破壞而突然失效，幾乎沒有塑性應變產生，變現為典型的脆性斷裂方式，這嚴重限制了其作為結構材料的應用。相對於金屬玻璃複合材料，可利用滲流鑄造法制備的鎢絲增強該基金屬玻璃複合材料，不僅有效地改善了塑性，而且提高了強度和密度，具有良好的自銳性，是一類有望替代貧鈾彈的新型穿甲材料。

該複合材料首先選用高純金屬（純度高於99.9%），將它們以合適的比例配合，在鈦吸附和氬氣保護條件下用電弧熔煉製備出母合金。直徑為250μm的鎢絲矯直後切成5cm長的小段，在40%的HF中浸泡，除去氧化膜，然後通過超聲波震盪分別在丙酮和乙醇中清洗。鎢絲排列在內徑為3mm的石英管中，熔化的母合金在氣壓的作用下滲入鎢絲之間。最後從爐子中取出石英管，並立刻在飽和食鹽水中淬火得到最後成品。


 

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