鉬片在真空爐中的應用

真空爐是一種可在高真空或惰性氣體環境中實施高溫熱處理及材料加工的設備，在藍寶石晶體生長、金屬熱處理、半導體製造、陶瓷燒結等領域應用廣泛。鉬片憑藉卓越的物理與化學性能，成為真空爐關鍵部件的優選材料，尤其在反射屏、發熱帶和連接件的製作中優勢顯著。

一、鉬片製作真空爐內的反射屏

反射屏是真空爐熱場中的核心部件，主要用於反射熱輻射，減少熱量損失，提高熱效率，並保護爐體結構免受高溫損害。反射屏通過將爐內的紅外輻射反射回加熱區，維持高溫區域的溫度均勻性，同時減少向爐壁的熱傳遞，降低能耗。

鉬的熔點高達2623°C，能夠在1000°C至2000°C以上的高溫環境中保持穩定的晶體結構與出色的機械強度，有效抵禦熱變形與熔融風險。另外，通過精密拋光工藝，鉬片表面光潔度大幅優化，反射性能進一步增強，實現更優異的熱遮罩效果。

二、鉬片製作真空爐內的發熱帶

發熱帶是真空爐中的加熱元件，通過電能轉化為熱能，為爐內提供所需的高溫環境。發熱帶需在高溫下保持穩定的電阻性能和機械強度，以確保長期可靠的加熱效果。

鉬片具有良好的導電性和高溫穩定性，適合作為發熱帶材料。在高溫真空環境中，鉬片能夠承受高電流密度而不發生顯著劣化，且其電阻特性穩定，能夠提供均勻的加熱效果。鉬片的化學惰性確保其不會與爐內環境或加工材料發生反應，延長了發熱帶的使用壽命，減少更換頻率。

三、鉬片製作真空爐內的連接件

連接件在真空爐中用於固定和連接熱場中的各種部件如反射屏、發熱帶和坩堝，確保熱場結構的穩定性和電流通路。連接件需具備高溫下的機械強度和抗腐蝕性，以維持長期運行的可靠性。

鉬片的優異機械性能和高強度使其適合加工成各種形狀的連接件，如夾板或支撐架。鉬片的耐高溫性和化學穩定性確保連接件在高溫下不易發生變形、斷裂或化學反應，維持熱場結構的完整性。

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