濺射鍍膜法製備出的氧化鎢薄膜均勻性較差、沉積速率較慢，容易把控氧化鎢薄膜中的化學成分、對襯底的附著力較好，同時濺射鍍膜法也因為容易控制工藝參數才工業上被廣泛應用；蒸發法製備的氧化鎢薄膜純度較高、沉積速度快，早期受到較多的重視；化學氣相沉積法具有低生產成本與高生產效率的特點，而且製備出的氧化鎢薄膜能均勻地覆蓋在複雜的表面；溶膠-凝膠法設備簡單、操作簡單、並且能製備出大面積氧化鎢薄膜，由於無法長時間的保存使其該方法無法被應用於工業上大規模生產。濺射鍍膜法相對來說比較適用於工業上大規模生產，本文主要介紹一下與濺射鍍膜法相關的一些知識。

 

濺射鍍膜法的原理。將靶材料與基片放於電場中，高能粒子通過電場加速後撞擊在靶材上，高能粒子可以為電子、離子或者中性粒子，但一般會選擇離子，因為離子在電場中容易獲得動能，離子轟擊到靶材料表面後經過一系列能量交換，原子或者分子從靶材料表面飛出，這個過程稱為濺射，濺射出來的大部分為原子，可能有小部分為原子團。濺射出來的原子或者原子團沉澱到基片的表面，在其表面鍍上一層薄膜，所以整個過程稱為濺射鍍膜法。