中子由於不帶電，而不與原子核外的電子相互作用，只能與原子核相互作用。按能量可劃分為慢中子(E<103eV)，中能中子(103~5×105eV)和快中子(5×105~1010eV)。選擇中子屏蔽材料時首先考慮的是對中子的減弱性能，其次才是對中子的吸收。中子的質量與質子很接近，所以含氫量較高的石蠟、聚乙烯、聚丙烯等材料是優良的快中子慢化材料。石墨還是很好的反射材料。隨著移動式反應堆和可攜帶輻射源應用的增加，傳統、單一的屏蔽材料已經不能滿足現代防護的使用要求。而研究指出，對於中子屏蔽件的製作，最好是用鎢合金屏蔽件。

10cm厚度的鎢合金屏蔽件對中子的屏蔽率可達93%。在厚度適宜的情況下，鎢合金屏蔽件對裂變中子的屏蔽效果遠大於鐵等材料。與鉛和貧鈾相比，鎢粉末無毒無污染，所以更容易被人們所接受。




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標準型的鎢合金飛鷹釣產品已經在漁業得到廣泛的應用，並鎢合金材料在該用途上享有盛名。

鎢合金飛鷹釣由鎢做成，比鉛重，這樣的形狀，不僅誘魚咬鉤，還可以使之更迅速地沉入水底。標準型鎢合金飛鷹釣頂部有一個小孔，底部有一個大孔，這樣可以使魚鉤更容易通過並滑動，與魚鉤可以配合得更緊密。

鎢合金飛鷹釣是通過專門設計的直徑大小差異的通孔來實現在水中穿梭的。一個小孔和大孔使魚鉤更容易彎曲滑動，用線使之連接，穿過鉤眼。




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利用白鎢礦和氧化鉬冶煉工具鋼，在先進工業生產領域得到了廣泛的推廣，所製備出來的產物滿足各大生產加工領域的需求，但是在製備的過程中，仍需要注意一定的煉鋼要點：

1：冶煉過程中，應將白鎢礦加在爐子中下部，熔化期末，也可利用噴粉工藝補加部分白鎢礦。如果將白鎢礦和氧化鉬一同加入冶煉高速鋼，白鎢礦加入方法同前，而氧化鉬可加在爐料底部，由於氧化鉬熔點低，在上浮階段熔化而充分還原，同時由於氧化鉬壓在爐底冷料下，其揮發性得到抑制；

2：為了控制渣量，應選擇好還原劑矽鐵和碳配比；

3：為加速熔化，爐料熔化80%後吹氧助熔，吹氧時間雖短，但使鋼液溫度升高，對排除鋼液中的氣體和夾雜鋼極為有利，鋼液沸騰後產生的液體膠東可改善鎢、鉬還原的動力學條件；

4：針對爐料中磷含量的不同可採用不同的冶煉方法。如果磷含量小於鋼中目標磷含量，可採用不氧化法進行冶煉，取消氧化期從而縮短冶煉時間。如果磷含量較高，利用氧化法脫磷；

5：還原期可在電爐爐底噴射惰性氣體對鋼水和熔渣進行充分攪拌，擴大渣金反應界面積，使還原反應充分進行；

6：如果用直流電弧爐冶煉高速鋼，在熔化期爐底接陽極，當進入還原期進行極性轉換，爐底接陽極，等離子通過電解效應進入鋼液中，鋼液中的P、S、O形成陰離子進入渣中，同時借助K、Na、Ca金屬的氟化物及氯化物，是氧化物充分離解，增強電解效應。




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電化學技術製備功能材料的原料及工藝雖比較簡單，但影響因素卻相當複雜。以下主要介紹電極間距對製備白鎢礦晶態薄膜的影響。

理論上將，電極間距陰極與陽極之間距離愈小愈好，因為電解液所呈現的內阻R與電極間距離成正比，與浸入電解液的電極面積成反比。所以縮短電極間距離可降低電解電壓，提高電能效率。但，如果電極間距離過小，兩電極的產物容易在兩極間進行擴散，容易放生副反應。同時，製備白鎢礦晶態薄膜過程中的本體溶液中的待反應離子不容易達到工作電極表面，從容影響電化學沉積物的形成。

除此之外，電極間距還會對溶液中共存的還原性物質、氧化性物質、絡合劑以及電極材料等產生影響，故在電化學製備過程中應根據沉積物性質、品質要求、反應過程、電流效率等因素，選擇合適的反應條件。




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電化學技術製備功能材料的原料及工藝雖比較簡單，但影響因素卻相當複雜，除一般化學反應動力學涉及的壓力、溫度、時間、溶液成分等，還需考慮到電位、電流等因素。以下主要介紹化學反應動力學涉及的因素-溶劑。

電化學技術製備白鎢礦晶態薄膜，該製備過程中電沉積選用水溶液體系還是非水溶液體系，對電沉積的功能陶瓷的性能有很大影響。一般情況下，在水溶液體系中得到的沉積層較厚，沉積物容易聚集成交大的顆粒，而且由於水有可能被還原放出氫氣，沉積層會呈現多孔狀。而在非水溶液體系中，沉積層非常薄且均勻，可以得到納米級顆粒的精細薄膜，這種情況下更能體現電沉積的優點。

可見在優質白鎢礦晶態薄膜的製備中最好選擇非水體系，這樣可以得到緻密的納米材料薄膜，從而具有更強的適用性。




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電化學技術是近年來發展起來的製備功能薄膜材料的重要技術，是軟溶液製備技術的重要組成部分。與傳統的薄膜製備技術相比，電化學技術不僅具有使用設備簡單、製備過程簡便、一步成膜等優點，還以其低成本、低能耗、高產率、環境友好等優勢，而具有極大的應用推廣潛力。採用電化學技術製備白鎢礦靜態薄膜是電化學製備技術在功能薄膜材料製備中的具體應用。

電化學技術製備白鎢礦晶態薄膜，該技術製備晶態薄膜具有獨特性，使得所製備的晶態薄膜上晶粒是以薄膜的方式生長，其生長習性同時具有晶體（晶粒）自由生長的某些同性和晶態薄膜生長的特徵。由於晶態薄膜的基體作為薄膜的基本組元之一，參與了電化學反應，薄膜的製備過程和機制是電化學反應後伴隨化學反應，因而必定具有電化學反應的特徵和相應的生長動力學特性。

可見，在採用電化學技術製備白鎢礦晶態薄膜時，不僅要考慮到白鎢礦晶體的結構與生長、白鎢礦晶態薄膜的形成與生長，還要考慮到相關的電化學問題。




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製備白鎢礦晶態薄膜的傳統方法眾多，有溶膠-凝膠法、磁控濺射法、噴霧熱解法、脈衝鐳射沉積法、化學氣相沉積法、離子束濺射、分子束外延、燃燒法、微波合成法和真空蒸發等。但各種方法都有其優點和不足：

1：濺射法和真空蒸發法具有膜厚可控制且調節範圍大、成膜表面光潔、平整、緻密等優點，但都對真空度要求比較高，所需設備昂貴，且成膜速度較慢；

2：噴霧熱解法工藝簡單，易實現化學劑量的摻雜，但要求基片保持較高的溫度，製備的薄膜由較大的應力，不利長期穩定工作；

3：化學氣相沉積法具有化學劑量準確，能大面積成膜等優點，但初始原料難以獲得；

4：溶膠-凝膠法能在較低溫度下製備多組分、均勻、高純度的超細顆粒薄膜，操作工藝較簡單，設備不昂貴，易摻雜。但由於其先驅物多為有機醇鹽，對環境有害，且薄膜與基體結合力較差，成本相對較高，製備時間也長。




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白鎢礦晶態薄膜主要是鎢酸鹽和鉬酸鹽薄膜，他們是由金屬陽離子與鎢酸根或鉬酸根絡合而成的多晶態固溶體薄膜，是一種重要的光電功能材料。薄膜上的晶體屬於四方晶系，呈四方雙錐或板狀，集合體呈緻密的塊狀或粒狀，晶面常有斜紋或蝕象，晶面呈雙晶，在紫外光的作用下，發淺藍色或黃色的螢光。

在室溫條件下，鎢酸鹽和鉬酸鹽靜態薄膜受到325nm的鐳射激發後，所有薄膜都在390-400波段有較強的發射光譜，這主要是由MO離子或WO4離子四面體基團的本征發射，即它們內部電子躍遷所決定；除此之外，薄膜還在430-600nm的較長波段範圍內出現一個寬的發射譜，這可能是由MoO3或WO3內的電子躍遷轉移所引起的發射。

白鎢礦晶態薄膜中Ca離子，Sr離子，Ba離子的種類和含量對螢光發射波長和最大吸收波長幾乎沒有影響，但固溶體薄膜的組分比會影響螢光發射強度。




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