用化學方法製備二硫化鎢（WS₂）薄膜的兩種常見方法是化學氣相沉積（CVD）和在高溫高壓條件下用水熱法從水溶液中生長單晶WS₂。CVD是用於製備WS₂的最常用方法。CVD方法涉及一個反應過程，其中氣態前體在固體表面發生化學反應，生成固體沉積物。

在過渡金屬二硫化物（TMDs）家族中，二硫化鎢（WS²）因其半導體特性而具有獨特的帶狀結構；即其寬頻光譜回應特性、超快的漂白恢復時間和出色的可飽和光吸收而受到越來越多的關注。

鎢鈷（WC-Co）硬質合金是可製造切削刀具和模具的一種由碳化鎢（WC）粉末和金屬鈷（Co）粉組成的合金材料，其硬度、强度與WC顆粒的大小密切相關，即在一定範圍內，WC晶粒越小，合金的硬度和强度越大。而WC粉末的粒度大小與其原材料氧化鎢的顆粒尺寸有關，即氧化鎢粒度越小，WC粉末越細。因此，爲了製造出納米WC-Co硬質合金，專利號爲CN103708560B的研究者提出了一種納米三氧化鎢的生産方法，具體步驟如下：

二硫化鎢（WS₂）原子結構包括由一個過渡金屬層（W原子）夾在兩個S原子層之間形成的疊層三層，每個S原子層都有一個六角形的晶格。在三層堆疊中，W原子和S原子通過強離子-共價鍵結合在一起。這三層形成的被弱的範德瓦爾斯相互作用固定在一起，這允許WS₂層的機械剝離。在體相中，多態性是TMD的獨特特徵。