致密钨和高纯度钨

致密钨和高纯钨是指纯度高于99.99%以上的纯钨，一般标记为4N，高纯钨是指纯度达到99.999%和99.9999%的钨粉，一般标记为5N或6N，英文名为high-purity tungsten。致密钨、高纯钨及其硅化物主要用于超大规模集成电路作为电阻层、扩散阻挡层等以及在金属氧化物半导体型晶体管中作为门材料及连接材料等，市场价格昂贵。

致密钨和高纯钨的材料形状可以是箔膜，薄片，靶材，细丝，绝缘线，直棒，圆管，粉末，单晶体等。致密钨和高纯钨的制备常用的方法有粉末冶金法和化学气相沉积法。

粉末冶金法是指钨粉经过成形后，加热到其熔点下的某个温度，通过物质迁移完成致密化的过程，最终得到高纯钨坯，这种方法工序较少，成本相对较低。

化学气相沉积法则是以六氟化钨（WF₆）为钨源，利用钨氟化物的熔点和沸点低的特点（熔 点 2.3℃，沸点19.9℃），采用精馏或蒸馏的方式提纯, 并在一定温度下被H₂还原，将生成的钨沉积在特定的基底上，沉积完成后去除基底材料获得致密钨坯，这种方法工序简单，也被广泛使用。

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