氧化钨制备方式2/3

2 还原法制备氧化钨。氧化钨是由钨与氧气通过氧化反应而生成的,还原反应可以通俗地理解为氧化反应的逆向化学反应。当在合适的还原剂条件下,三氧化钨(WO3)可以被还原为钨(W),但是只要将反应条件控制在一定范围内,产物就会变为中间相,如W20O58和 W40O118等,还原反应制备氧化钨最重要的是催化剂的选择,催化剂的选择将直接影响到最终产物的组成成分。Arid等采用钠蒸汽为还原剂还原孪晶的WO3晶体,钠蒸汽顾名思义就是将钠金属加热至沸点产生蒸汽,还原反应沿着WO3孪晶界发生,只有失去氧的WO3-x层成为薄膜超导层,其余大部分未发生超导现象。
 
3 模板法制备氧化钨。采用氧化法与还原法制备氧化钨虽然操作较为简单,但是反应所需温度高、无法调控其产物的形貌,所以才会出现了模板法来制备氧化钨。模板法的意思就是首先提供一个模板让纳米氧化钨随着模板成型,控制其形貌;然后将模板溶解,或者采用其他方式去除,就得到特定形貌的纳米氧化钨。分为硬模版法和软模板法,其主要区别为,(1)当模板为管状时,硬模版的前驱液(制备氧化钨的液体原材料)只能从头尾两端进出;而前驱液在软模板中不受约束,能在管壁中自由通过;(2)软模板法在后期去除模板是相对容易;(3)软模板法的成型效果不如硬模版法好。Cui采用模板法合成出具有有序多孔结构的介孔氧化钨材料,以介孔硅作为模板,12-磷钨酸作为钨源,最后用HF溶液去除介孔硅模板制备出介孔氧化钨材料。
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