超音波化学法でナノ酸化タングステンを調製する

超音波化学法は調製する特異性能のナノ材料の有効な方法である。それは物理的方法と化学の方法を組み合わせて、便利で、有効で、安全の技術である。材料合成で処理の重要な方法を発展するになった。人々の興味と非常に重視している。

しかも、ナノ酸化タングステン粉末の応用が広くに従って、人々はナノ酸化タングステン粉の粒体の団欒の問題は粉末の性能に影響を与えることが認識する。だから、調製した酸化タングステンナノ粉体の過程の中ではタングステンナノ粉末体が後期酸化タングステンナノ粉体粒度の影響に注意のほか、どうナノ酸化物粉体の増大を抑えるのは重要な問題である。だから、超音波化学法を運用するの同時に補助界面活性剤を入って、化学反応のマイクロ環境を改善することができるだけではなく、溶液中を通じて形成したナノミセル合成材料のテンプレートになる。

以上の技術を採用して、500℃の温度条件の下で、タングステン3時間を煆焼して、理想のナノ酸化物粉体材料を獲得することができる。しかも、このメソッドは、コストが低く、簡単で便利などの長所がある。

 

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超音波法でナノ三酸化タングステンを調製する

超音波法はその独特な物理効果と化学効果でナノ三酸化タングステンを調製する時に良い効果を収獲することができる。超音波の作用の下で発生したの高温と固体の粒子表面の大量発生する気泡は結晶核の表面が大幅に低減しました。それは結晶核のポリ結びと成長を抑える。また、超音波の作用その衝撃波とマイクロ流体の粉砕作用でゲル瀋殿を均一の小さな粒の存在している。超音波の技術を利用し、キャビテ-ションの時発生の局部の高温、高圧や強い衝撃とマイクロ波流体などの作用で、かなりナノ粒子間の結合力が大幅に減らすことができる。それによって有効に集まりの現象の発生を阻止に調製は多孔質構造の高比表面積、高結晶化度のナノ三酸化タングステンに有利である。

調製方法は:等速で配置のタングステン酸ナトリウム溶液加入カチオン樹脂交換カラムの中で、後の交換のタングステン酸溶液をビーカー、冷却後ゲルを形成する。1~2日後に放置して、蒸留水超音波分散ゲル20minに入って、8000r/minで遠心分離1h得沈殿物を得る。そして、繰り返し1、4、7、10回の後、室温で別れを真空乾燥や100℃をくわえて乾燥して少量の結晶水の違うマイクロのナノ三酸化タングステンを得ることができる。

 

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電着法で三酸化タングステンのフィルムを調製する

三酸化タングステンのフィルムは適切なエネルギーの光照射や利用電界(電界変色)を通して色を呈する。この性質はそれで電界変色窓、大面積情報ディスプレイと自動車反射鏡などの方面に広く使われる。人々は調製するのWO3フィルムに多数の方法を研究して、物理蒸着法と化学蒸着法を含む。しかし、これらの方法は制作のコストが高くて大面のフィルムのも形成しにくい。しかし、電着法は調製するのWO3フィルムの方面で、経済が優遇で大面積のフィルムも制作しやすい。最も重要なのは調製てWO3フィルムの光変色や電界の変色性が良好である。

フィルムの備え付け方法:Pt片は陽極をとして、クリストバライト導電ガラスが陰極になる。陰極電着温室と溶解度は0.5 mol/LのNA2WO4溶液に反応し、定電流密度は2.00A/cm2で、システムWO3薄膜まず赤信号で干しにする。そして400℃で熱処理は3時間で、熱処理後のフィルムはより平均で、粘着性は良い。X射線回折結果によると、このWO3フィルムは無定型の結晶膜になる。

 

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三酸化タングステンの結晶の構造

化学計量比が厳格に満足の三酸化タングステンの結晶の構造はペロブスカイトの構造べきだ。つまり、ABO3型式の構造の中でAカチオンペロブスカイトの不在を現れる。酸素原子は正八面体を構成されて、、タングステン原子はこの正八面体の中央である。すべての単一晶相の三酸化タングステンは八面体構造を見えて、ただ一定の構造で構造の歪みに起きる。

三酸化タングステンは違い程度の酸素の不在なので、その化学計量も比較的に複雑である。だから、三酸化タングステンの化学式は一般的WO3-X型式を書いた。また、酸素空席の数が増えるにつれて、それらはWO3-X晶体内の分布が秩序になって、いわゆる型切り面になる。X<0.02時に、これらのせん断面は不規則に分布である。X 0 . 02後せん断面はユーザーが互いに平行に並んだが、還元程度の増加に伴って、切り面配列の秩序ある程度も増える。これらは違う結晶構造と空席の化合物で、三酸化タングステンは多種の性能を持って、その持った光触媒活性も違う。

 

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真空炭素還元法で三酸化タングステンを還元する

タングステン粉と炭化タングステン粉の化学純度と物理の性能の要求は厳しいから、調製したのタングステン粉と炭化タングステン粉の工芸はとても復雑で、コストも高い。しかし、多くの場合ではタングステン粉の成分が厳しくない要求するの時はたくさんの不純物がある。工業純炭素還元はタングステン粉を調製するのは一つの経済で簡単な方法である。しかも、真空炉内で炭素に用いて三酸化タングステンを還元するのは純度が高いタングステン粉と炭化タングステン粉に直接調製することができて、溶解鋳造炭化タングステンを提供する。

現在の科学技術によって、工業純炭素や炭化タングステンカーバイドの原料として鋳造粉が完全に要求を満足させる。炭素で三酸化タングステンを還元するの原理と水素で三酸化タングステンを還元するの原理は似ている。

常圧の下で、温度は750℃の条件の下で、三酸化タングステンを加熱して墨や石トナーの混合物が還元反応を発生される。その化学反応方程式は:WO3+3C=W+3CO、WO3+4C=WC+3COである。また、1000℃以下で、主にCOは還元反応に参加する。化学方程式は:WO3+3CO=W+3CO2、CO2+C=2COである。その中の主な工芸は原料と炭素の混合を含む。そして、ズタボロ圧力成形、200℃の条件の下で乾燥して、真空還元に炭化し、更にズタボロフィルタをこす。

三酸化タングステン

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固相焼結法で三酸化タングステン光触媒を調製する

光触媒は水を分解する氢と酸素の触媒剤である。三酸化タングステン中のタングステンイオンが酸素不在に存在するので部分のW6 +イオンはW 5 +イオンを還元する。酸素の不在は三酸化タングステン光触媒の性能の主な原因である。しかし、タングステン酸化の原子価状態変化が激しく、酸素の含有量は確定しにくく、構造は相転移と復雑な電気学の性質などの原因によって、違い晶型の光触媒の性質はずっと確定できない。

専門家は何度も実験を経て発見した。APTに用いて固相法をへての調製したWO3-X光触媒は主に、単斜相を組成する。その光触媒分解水性能が悪い。しかし、反応の条件を変えた後に、その光触媒の性能が大幅に向上する。例えば、温度が600℃の条件の下で4時間を加熱する6カ国にWO3-Xを生産することができる。6カ国にWO3-Xの光分解水析酸素の速度が最高だ。H2WO4に用いて固相法を経るの調製したの装備WO3-X光触媒は単斜相である。しかも、温度は光触媒の性能の変更があまり大きくない。だから、H2WO4を運用するの調製したWO3-X光触媒の性能はAPT 600℃の温度の下で調製したWO3-Xの光触媒の性能に及ばない。

 

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熱水結晶化法で三酸化タングステンの光触媒を調製する

三酸化タングステンは光触媒として有機と無機の材料を分解するの方面において広い応用がある。APTとH2WO4を原料で、固相法を経て焼結調製したのWO3-Xの光触媒の効能は違う。そして、高温の条件の下ではAPTを原料にして6カ国WO3-X光触媒の効能がより良い。

しかし、実験によって、H2WO4を原料に水熱結晶化法を運用して調製したWO3-Xは6カ国の相で、酸素指数は2.50で、光触媒で分解した水の性能が大きくを向上する。また、水の熱結晶化法で、原料あ温度の向上に伴い、変化を発生する。温度の増加に従って、製品はWO3-X.0.33H2Oから6カ国WO3-Xになって、温度の変化によってWO3-X片流れを発展する。

最初にWO3-Xの光触媒は温度の向上が良くなるにつれて、しかし6カ国にWO3-X徐々に転換片流れWO3-Xになる。それの光触媒分解水性能も徐々に減少する。その中から私たちが酸素指数の減少に伴って、WO3-Xの光触媒分解水速度が先に高く上がって、極限に達した後が急激に低下する。すなわち、WO3-Xの光触媒性能は最高の酸素含有量が存在している。酸素指数が2.44~2.50時、その光分解速度が大きい。だから6カ国にWO3-XはWO3-X光触媒分解水性能を高めることに利益がある。

 

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三酸化タングステンの電気学の性質

三酸化タングステンの分子式はWO3で、分子量は231.85である。WO3の分子式はかなり簡単ですが、物理的性質は非常に複雑である。化学計量比に満足で不純物がない三酸化タングステンは無色透明の絶縁体であるが、一般的WO3中の酸素の含有量はを厳格な化学計量に満たしていない。調製の中に酸素の含有量は抑えしにくく、他の複雑な要因に加えてから、WO3-X型式で表示する。

1959年、SawadaとDanielsonはWO3単結晶での電気抵抗の抵抗率測定結果p = 1.7×10-1Ω・cmをじた。1983年、SahleとNygrenはWO3-X(0 y≤≤0.28)係列単結晶の導電率測定を報じた。三酸化タングステンの電気学性質の研究につれて、WO3-X単結晶に対して、その電気学の性能はその構造と酸素の含有量の変化に従って金属や半導体行為を呈することができる。また、強誘電性の行為はWO3材料のひとつのきわめて重要な電気学の性質である。WO3結晶は強誘電材料の一つで、その強誘電の温度はTc=-40℃である。

 

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三酸化タングステンの光学的性質

光触媒は今年の発展の新しい分野では、現在多くの半導体材料が光触媒に使用されて、水分解に用いる。WO3中のタングステンイオンが不在で酸素が部分のW6 + W 5 +イオンを還元になる。酸素不在は三酸化タングステンの晶型とレベル構造に影響を与える。そして、光触媒の性能にも影響を与える。非化学計量WO3-X表現n型半導体行為で、禁止帯幅は2.4~2.8evで、このことでの光触媒性能が他の半導体材料である。

波長は330nm紫外光輻射の下では、Fe2 + / Fe3 +電解質の体係の中で、WO3粉体触媒光分解水産酸素速度は1220umol/g/hである。そして、420nm可視光輻射の下、産酸素速度にも320umol/g/hに達した。WO3の中のタングステンイオンが不在で酸素が還元になる部分のW6 + W 5 +イオンが発生した時、電界変色効果を発生して、材料の色の対応には淺い黄色から淺い緑になる。外部とWO3イオンと電子材料の可逆注入によって、W6 +イオンとW 5 +イオンが相互変換、この方面の応用は材料の着色とアクロがある。

三酸化タングステン

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焙煎の温度はブルー酸化タングステンの比表面積と费氏粒度の影響

ブルー酸化タングステンの形態は主に成分、比表面積、费氏粒度、酸素指数と殘って揮発分を含む。そして、ブルータングステンの形態の主な工芸パラメータを影響するのは焙煎の温度と雰囲気である。焙煎の温度はブルー酸化タングステンの比表面積の影響は主に比表面積の大きさである。

また、違い焙煎の温度に比較を通じで、比表面積の違う反応しましたところ、タングステンの比表面積は焙煎の温度の増加に伴って著しく低下する。焙煎の温度は400℃の時、ブルー酸化タングステンの比表面積は16.31㎡/ gに達する。しかも、焙煎の温度は500℃を増加するの時に、比表面積は10.07m³/ g下がる。それは焙煎解温度が高くタングステン粉粒子径分布に有利を改善するが、粒の比表面積が急激に減少につながる。そして、製品に大団粒を生成する。だから、この研究の結果から発見させるのはブル酸化ータングステンは先進の比表面積を維持しなら、APTは低い温度で焙煎をする。

 

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