钨酸铋/氮化硼复合光催化材料（二）

钨酸铋为层状结构，具有介电、发光、离了导体等特性，并且钨酸铋在可见光下具有光催化性能，在可见光下能够光解水和光降解有机污染物，因此钨酸铋在很多相关领域有很好的应用前景。

钨酸铋的光响应良好，但在实际应用中通常需要修饰和改性，方法很多，效果不一。有研究人员提出了一种钨酸铋/氮化硼复合光催化材料，其制备过程如下：

步骤1，将六方氮化硼粉体、硝酸钠和浓硫酸按照质量比为1：0.5～1： 30～60混合后置于冰水浴中搅拌均匀得到悬浮液，将高锰酸钾缓慢加入到悬浮液，六方氮化硼和高锰酸钾的质量比为1：0.5～1，持续搅拌反应8～24h，然后加入双氧水并持续搅拌反应0.5～1h，高锰酸钾和双氧水的质量比为1： 8～16，待反应结束后将悬浮液在3000rpm条件下离心10min，将上层悬浮液用微孔抽滤，去离子水洗涤至中性，干燥后得到氮化硼纳米片。

步骤2，将五水硝酸铋溶解于浓度为10％的硝酸溶液，五水硝酸铋和硝 酸的质量比为1：40～100，然后加入氮化硼纳米片和钨酸钠得到混合溶液， 氮化硼纳米片、五水硝酸铋的摩尔比为1：0.01～0.6，五水硝酸铋和钨酸钠 的摩尔比为2：1，将混合溶液超声搅拌均匀，转移至水热反应釜，并置于烘 箱中加热至120～220℃处理5～30h后自然冷却至室温，将得到的产物离心分离洗涤，干燥，得到钨酸铋/氮化硼复合光催化材料。

氮化硼具有与石墨相似的结构，但是与石墨相比，氮化硼还具有很多优异的物理化学特性，如耐高温、高导热、优异的电学性能、良好的高温稳定性以及化学稳定性等。层状氮化硼纳米片表面由于存在氮空位会导致其具有一定的电负性，如果以氮化硼纳米片作为光催化剂载体，将半导体光催化剂负载于氮化硼纳米片上，体系受光照激发后，氮化硼纳米片表面的电负性会吸引半导体价带的光生空穴以促进空穴的迁移，进而提高光生载流子的迁移效率。此外，氮化硼纳米片大的比表面有利于增加复合体系的吸附性能，这些对于光催化效率都是有利的，也因此，钨酸铋/氮化硼复合光催化材料值得关注的环保材料。

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