チタンドープ酸化タングステンエレクトロクロミック膜

Tiドープ酸化タングステンエレクトロクロミック膜は、Tiドープ酸化シリカゾルの調製と、得られたゾルにITO導電性ガラスを浸漬し、引き上げてTiドープWO 3エレクトロクロミック膜を調製する2つの主要なプロセスによって調製することができる。具体的には、この専門家はTiドープ酸化タングステン膜を製造する方法を提案した：

詳細については、次のサイトを参照してください。

http://www.tungsten-powder.com/japanese/tungsten-oxide.html

チタンドープ酸化タングステンゾルの調製。ドープ用チタン溶液を調製し、チタン酸塩、ジエタノールアンモニウム、蒸留水及び無水エタノールを一定の割合でビーカーに加え、均一に攪拌し、放置して使用する。100 mL 0.25 mol/LのNaWO 4溶液をイオン交換処理し、ジエタノールアンモニウムを添加してpHを約8に調整してゾルを構成した。

チタンドープ酸化タングステンエレクトロクロミック薄膜の製造。3 cmx 8 cmのITO導電性ガラス1枚を洗浄剤を含むビーカーに入れ、超音波クリーナーで洗浄し、乾燥して使用に備える。乾燥、洗浄した基材を上記で調製したゾルに一定速度で浸漬し、1分間静置した。基板を4 mm/sの引上げ速度で垂直に引上げ、乾燥してマフラー炉に置き、200°Cまで2時間加熱した後、自然冷却してTiドープ酸化タングステンエレクトロクロミック膜を得た。

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