エレクトロクロミックスマートウィンドウにおけるチタンドープWO3薄膜の使用

チタンドープWO3薄膜はエレクトロクロミックスマートウィンドウを組み立てるための最も重要な材料である。TiをドープしたWO3膜に基づくエレクトロクロミック窓を研究している専門家もいる。

詳細については、

http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html

まず、専門家たちはアルゴンと酸素の存在下で、金属チタンとタングステンを共スパッタリングすることによってチタンをドープした酸化タングステン薄膜を堆積した。その中で、三段階に分けて酸素室圧力がチタンドープWO3エレクトロクロミック性能に与える影響を研究した。まず、XRD、SEM及びUV−Vis分光光度計によりエレクトロクロミック膜の材料性能を研究した、厚さと光学定数は反射率測定値から推定される。次に、電解質として1.0 MHClを用い、サーキュレーションボルタンメトリー法によりエレクトロクロミック膜のエレクトロクロミック挙動を特徴づけた。×10 O 2圧力で堆積したチタンドープ酸化タングステン薄膜の光学変調（ΔT）と発色効率（CE）− ΔT=70%，CE=66 cm2/C（λ=550 nm）。最後に、5層（ガラス／ITO／Ti：WO3／Ta 2 O 5／NiO／ITO）からなるエレクトロクロミックデバイスを作製し、試験した。

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