光触媒作用WO3‐ZnO複合膜

wo3‐zno複合膜の光触媒は注目を集めている。専門家によると、WO 3は、下水中の有機物の接触分解のための光触媒反応の触媒として使用できる狭いバンドギャップ（2.4～2.8 eV）を有する重要な非毒性半導体材料である。そこで，wo 3‐zno複合膜の作製は主要な研究ホットスポットとなり，その光触媒性能は注目を集めている。

詳細はこちらをご覧ください

http://www.tungsten-carbide.com.cn/Japanese/index.html

アルミニウム箔上にwo 3‐zno複合膜を作製し，それを活性炭で改質するゾル‐ゲル法を使用した。また，有機汚染物質を模擬するためにメチルオレンジ溶液を用いたwo 3 zno膜の光触媒分解性能を研究した。その結果，白熱電球を2 h照射し，wo 3の質量分率を2 . 5 %とすると，wo 3 znoアルミニウム箔のメチルオレンジへの分解速度は78.54 %に達した劣化率は紫外線照射下で99.89 %に達した。活性炭のドーピング量が10 g／lの場合、得られたWO 3−ZnO複合膜は良好な光触媒性能を有している。可視光照射下でのメチルオレンジの分解速度は85 . 71 %に達した。

• < 前へ
• 次へ >