グラフェンのような2次元材料：二硫化タングステン

二硫化タングステンは、新しいタイプのグラフェンのような2次元材料であり、電気デバイス、エネルギー、生物学、および複合材料に大きな応用の可能性があります。

詳細はこちらをご覧ください：
http://tungsten-disulfide.com/japanese/index.html

新しいグラフェンのような2次元材料の研究がますます重要になっているので、WS2の準備も研究ホットスポットです。現在、二次元WS2の作製方法としては、機械的ストリッピング、電気化学的リチウムイオンインターカレーション法、液相ストリッピング法、水熱法、化学気相成長（CVD）法などがあります。その中で、ＣＶＤ法は、高い結晶品質、制御可能なサイズおよび層数の利点を有する。しかし、現在のところ、CVD法によるWS2の合成に関する研究はまだ少ない。既存のレポートでは、準備された2次元WS2のサイズは数十から100ミクロンであり、制御された成長の目的を達成できません。したがって、研究者らは二硫化タングステンの合成に関する詳細な研究を続けています。

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