ナノ三酸化タングステンエレクトロクロミック薄膜

ナノ三酸化タングステンエレクトロクロミック薄膜は、スマートウィンドウなどのエレクトロクロミックデバイスの組み立てに主に使用されます。建物の省エネルギーの分野での酸化タングステンエレクトロクロミックフィルムの適用により、ますます多くの研究者がWO3フィルムの調製に注意を払うようになりました。以下は、ナノ三酸化タングステンエレクトロクロミック薄膜を調製するための新しい方法です。

詳細については、以下をご覧ください。
http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html

ステップ1：準備した溶液を反応容器に加え、タングステンソースターゲットを溶液に入れ、ターゲットの表面を溶液に浸し、マグネティックスターラーで溶液を均一に攪拌します。

ステップ2：レーザーのパルスレーザービームの光路を調整して、レーザービームが溶媒液面下のターゲットに焦点を合わせるようにします。適切なレーザーの波長、周波数、エネルギーを選択し、パルスレーザーをオンにすると、タングステンソースターゲットのアブレーション反応が液体環境で実行されます。

ステップ3：パルスレーザーアブレーション反応が完了したら、パルスレーザーをオフにして酸化タングステンナノ粒子を含むコロイド溶液を取得し、室温でエージングしてレーザーアブレーション生成物と溶液をさらに反応させます。

ステップ4：老化したレーザー製品溶液のpH値を調整し、透明導電性ガラスを電極として溶液に入れ、酸性条件下で老化したレーザー製品に電気泳動堆積を行い、ナノ酸化タングステン膜を調製します。

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