三酸化タングステン系無機エレクトロクロミック膜

三酸化タングステン系無機エレクトロクロミック膜は、インクジェット印刷製膜法により作製することができる。 ご存じのとおり、電子機器の急速な発展に伴い、印刷電子技術はますます学術界および産業界の焦点となっています。

三酸化タングステン系無機エレクトロクロミック膜の写真

詳しくは、次のURLをご覧ください。
http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html

三酸化タングステン系無機エレクトロクロミック膜の写真

2012年には、WO 3エレクトロクロミックフィルムのインクジェット印刷に関する報告がありました。 報告によると、科学者たちは最初にゾル - ゲル法によって調製された水和WO 3ナノ粒子をインクジェット印刷技術によってPET / ITO上に印刷し、それらを柔軟なエレクトロクロミック装置に組み立てた。 最近、インクジェット印刷三酸化タングステンエレクトロクロミック薄膜の研究において画期的な進歩があり、科学者達は電極のエレクトロクロミック特性に及ぼすインクジェットプロセスの構造、形態、そして効果について議論し、そして 全固体相補型エレクトロクロミック装置をインクジェット印刷技術によって調製した。

 

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