ナノ構造の酸化タングステンの合成

気相沈澱の範囲はとても広くて、通常とは源材料の気相条件の下ターゲットの基材に集まる。酸化タングステンを生産して、一般的は物理気相蒸着法（PVD）を用いる。PVD法は酸化タングステンタングステン源としてに直接用いる。ハイエナ-ジの蒸発昇華の方法で沈澱して、たとえばイオン衝撃、加熱、イオンビーム、レーザー放射などである。パラメータの制御を通して、ナノメートルサイズの結晶で、容貌の形成を実現することがでる。また、タングステン源は酸化タングステンが必ずしもなく、粉末と糸状のタングステン単体にもできる。また、必ず酸素やその他の酸化剤を導入しWO3のガスクロを形成する。多くの時、PVD法は生成にはWOxで、WO3ではない。沈澱物の色、通常はその化学計測を推定することができる。一般にブラックフィルムの形成が形成のWOx材料中の酸素原子が欠如に意味である。

スパッタリング法では、高いエネルギー粒子はターゲットの原子を衝撃しフィルムを生産するの方法である。その長所は制御性は良くて、生えた結晶膜は優れた構造の制御性がある。スパッタリング法は操作しやすく、大量生産にスクロール式の生産を実現することができる。だから、工業で酸化タングステンを生産するの方面で、スパッタリングは広い応用がある。

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