WO3−TiO2エレクトロクロミック薄膜への三酸化タングステンの使用

WO3−TiO2エレクトロクロミック薄膜を製造するために用いられる三酸化タングステンは、第1種であり最も典型的なカソードエレクトロクロミック材料である。エレクトロクロミックが発見されてから数十年、専門家たちはWO3エレクトロクロミック材料とデバイスの製造について深い研究を行った。

詳細については、

http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html

ここで、既報のWO3薄膜の製造方法としては、スパッタリング法、電着法、真空蒸発法、陽極酸化法、化学蒸着法などが挙げられる。しかし、これらの方法は設備が高価で、技術が複雑であるなどの欠点があり、そのため、それらの応用も制限されている。これに対して、専門家は、WO3薄膜もゾル−ゲル法を用いて製造することができ、製造技術は設備が簡単で、コストが低い利点があると述べた。また、ゾル−ゲル法は大面積フィルムの製造に適している。得られたWO3エレクトロクロミックフィルムにも使用寿命が低く、フィルムの付着力が悪く、ゾルが不安定であるなどの欠点があり、エレクトロクロミック性能が悪い。

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