エレクトロクロミック素子におけるWO3薄膜の使用

エレクトロクロミック素子に用いられるWO3薄膜は、電気泳動堆積法により作製することができる。例えば、一部の専門家は電気泳動堆積により三酸化タングステン薄膜を製造し、100°Cで薄膜を熱処理した。

詳細については、

http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html

専門家は、得られた三酸化タングステンエレクトロクロミック薄膜が六方相ミクロ構造を有することを発見した。しかもその部分は非晶質です。薄膜の着色光透過率と漂白光透過率の差は68%であった。減衰時間は8sであった。フィルムのサイクル寿命は104秒以上に達した。しかし、電気泳動堆積法を用いて酸化タングステン薄膜を製造する理由を知っていますか。他の方法に比べて、電気泳動堆積法はより簡単で制御可能である。また、コーティングがより均一であるため、複合フィルムの製造に使用することができる。しかし、コーティング面積の影響により、生成される三酸化タングステン膜の面積は相対的に小さいことに注意すべきである。

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