エレクトロクロミック薄膜へのタングステン酸の使用

エレクトロクロミック薄膜の製造に用いられるタングステン酸とは、タングステン酸粉末を指す。タングステン酸粉末は主に酸化タングステンエレクトロクロミック薄膜中のWO 3ゾルの製造段階に用いられる。では、タングステン酸を用いたWO 3ゾルの製造方法は?

エレクトロクロミック薄膜へのタングステン酸の使用

詳細については、

http://www.tungsten-powder.com/japanese/tungsten-oxide.html

エレクトロクロミック薄膜へのタングステン酸の使用

タングステン酸によるWO 3ゾルの製造

電子天秤で一定量のタングステン酸粉末を秤量し、一定量の過酸化水素と少量の脱イオン水を加え、タングステン酸粉末と過酸化水素の割合を1:2に維持した。45分間超音波分散すると、淡黄色懸濁液が得られる。磁気攪拌しながら、懸濁液に1 mol/Lクエン酸をゆっくりと加えた。10分間攪拌した後、一定の粘度を有する黄白色懸濁液を得ることができる。攪拌しながら3 Nアンモニア水をゆっくり加え、pHを3.5〜4.0の範囲に調整した。アンモニア水を加えた懸濁液を三首丸底フラスコに入れ、攪拌機と電気加熱装置を開き、加熱速度を1°C/minに保持し、温度を100°C 3時間に上昇させ、室温まで自然冷却し、淡黄色WO 3ゾルを得た。

 

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絶縁ガラス用Cs 0.32 WO 3粒子

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