三酸化タングステン薄膜へのWO3の使用

三酸化タングステン薄膜を作製したWO3は、NiO2やMoO3などの他の遷移金属酸化物よりも優れたエレクトロクロミック特性を有しているため、三酸化タングステンおよびそのエレクトロクロミック薄膜が最も注目されている。酸化タングステンの性能は実験的に製造する方法と条件に大きく依存することに注意しなければならない。

詳細については、

http://www.tungsten-powder.com/japanese/tungsten-oxide.html

専門家によると、三酸化タングステンも広帯域ギャップ半導体の一種で、その光学バンドギャップは約3.00eVである。では、広帯域ギャップ半導体とは何か。一般的に、ワイドバンドギャップ半導体とは、室温で2.0eVよりもバンドギャップが大きい半導体材料の一種を指す。広帯域ギャップ半導体は、高周波、高温、高出力電子デバイス及び電界放出デバイスに広く応用されている。また、紫外光電デバイスで見つけることができます。さらに重要なのは、省エネフィルムを製造し、断熱性と保温性の高いスマート窓に組み立てることができるため、WO3のエレクトロクロミック性能に非常に注目すべきである。

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