オフィスビルの断熱膜におけるセシウムタングステン青銅ナノ粉末の使用

オフィスビルの断熱膜を製造するために用いられたセシウムタングステン青銅ナノ粉末は、強い近赤外光吸収と高い可視光透過率を示した。近年、専門家たちはCsxWO 3ナノ結晶が強い近赤外光吸収を示し、高モル消衰係数を有することを発見し、そのため近赤外光励起時に大量の熱を発生する。

詳細については、次のサイトを参照してください。

http://cesium-tungsten-bronze.com/japanese/index.html

現在の研究結果により、CsxWO 3ナノロッドはPTA癌治療において広い応用の将来性を持っていることが明らかになった。PTAは光熱溶融治療の略称である。2種類のヒト癌細胞系のPTA研究により、CsxWO 3ナノロッドは高温誘導リソソーム破壊、細胞骨格蛋白質分解、DNA損傷及びその後の細胞壊死又はアポトーシスにより効果的に細胞死を引き起こすことができることが明らかになった。一部の専門家はまた、健康細胞が照射されていない領域から死細胞周期に移行することは、腫瘍組織の光破壊後の組織再建と創傷癒合にとって極めて重要であることを確認した。

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