WO3ナノプレートアレイフィルム

WO3ナノプレートアレイ膜は近年の光電子材料分野の研究ホットスポットである。そのため、高度に秩序化されたWO3ナノ構造アレイ膜の製造にも注目されている。報告によると、秩序ナノアレイ膜を製造するための一般的な方法は、水熱法、テンプレート法、化学蒸着法、熱蒸発法などを含む。

詳細については、次のサイトを参照してください。

http://www.tungsten-oxide.com/japanese/index.html

その中で、水熱法は反応条件が温和で、設備が簡単で、コストが低く、大面積フィルムの製造が容易であるという特徴があり、そのため多くの研究者の愛顧を受けた。専門家たちはFTO導電性ガラスを基板とし、水熱合成と焼成により、FTO基板上に直接WO3ナノシートアレイ膜を合成し、光電化学電池と染料増感太陽電池への応用を研究した。このうち、WO3シード層をプレキャストする必要はない。また、専門家たちはWO3薄膜の形態と構造に対する異なる水熱合成条件の影響を研究した。結果は、C2042−がWO3ナノプレートアレイの形成に重要な構造ガイド作用を持つことを示した。

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