オフィスビルの断熱膜へのナノ三酸化タングステンの使用

オフィスビルの断熱膜を製造するためのナノ三酸化タングステンはエレクトロクロミック材料である。専門家によると、三酸化タングステンナノ粒子をエレクトロクロミック素子に用いる可能性を探るためには、三酸化タングステン薄膜の光学性能を初歩的に徹底的に研究することが重要な一歩である。

詳細については、次のサイトを参照してください。

http://www.tungsten-powder.com/japanese/tungsten-oxide.html

上記基準に基づいて、専門家たちはWO 3薄膜の構造、表面形態、光学特性に対するアニール温度の影響を研究した。彼らは電子ビーム蒸発技術の物理蒸着方法を用いて、1×10 ^-5 mbarの圧力でWO 3薄膜を製造した。専門家たちはX線回折分析を通じて薄膜の単相特性、単斜晶構造と組織特性を確認した。結果により、表面形態に針状結晶粒が観察された。評価した微結晶サイズはナノメートルの範囲内であった。専門家らは、光学研究から観察された吸収端のより高波長領域への移動は、薄膜上の着色効果による可能性があると説明している。

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