纳米三氧化钨如何净化水质
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- カテゴリ: 钨业知识
- 2017年7月10日(月曜)23:35に公開
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随着工业的迅速发展,在带来巨大经济效益的同时,其排放的废水对环境的污染也日益加剧。工业废水有机物浓度高、可生化性差、色度深、成分复杂,含有石油类、胺类、酸类、破乳剂等污染物,属于难降解的有机废水,给生态系统带来难以预测的影响和危害。
光催化净化水质中的有机物是一项新技术,它利用太阳光对有机物进行降解,节约能源而且不污染环境,具有很大的应用前景。
纳米三氧化钨是一种优质的n型半导体材料,作为光催化剂的 n 型半导体种类很多,有 TiO2、ZnO、Fe2O3、CdS 和 WO3等。研究表明,WO3光催化稳定性良好,对光催化降解水中污染物也有较理想的催化效果。
在废水处理方面,1985 年,有学者首先报道了以 WO3为光催化剂处理印染废水的实验,结果表明:当可见光照射到悬浮于水溶液中的半导体粉末时,染料被分解为 CO2、H2O、N2等,从而降低了 COD 和色度。为了提高印染废水的 COD、色度的去除率,还有学者利用柠檬酸为结构调整剂制备了三维中空球状的WO3H2O,当将其应用于光催化降解有机染料时,可见光下照射化,可分解94.8%的RHB染料分子。
纳米三氧化钨具备了光催化剂的几个关键因素:(1)纳米结构材料提供合适的表面积与体积比;(2)相对低的价带禁带间隙能,这样才能有效利用太阳光中的可见光区:(3)合适的带隙结构,送样才能更有利于氧化还原反应进行;(4)材料的稳定性,这样才能忍受恶劣的操作环境,因此,近年来国内外通过WO3光催化氧化来降解有机污染物的研究越来越多。
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