制备纳米三氧化钨-纳米敏感膜
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- カテゴリ: 钨业知识
- 2015年2月05日（木曜）11:35に公開
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以往纳米三氧化钨的制备主要集中在敏感膜上，其制备工艺也较成熟，它最早于1967年由美国人Shaver报道，而现阶段立志于采用不同制备方法和工艺来提高敏感膜气敏性能，如掺杂、降低敏感膜粒径、表面催化等。
国外研究学者采用溅射法制备了纯的和七种贵金属掺杂的敏感膜，气敏性能测试结果显示，敏感膜对H2S、NO2和NH3表现出很好的灵敏性。同时，在中温（110℃）条件下，Ag和Au掺杂的薄膜适合检测H2S和NH3。外国研究学者在氧气气氛下采用热蒸法制备了三氧化钨敏感膜，其厚度约为20μm。气敏测试结果表明，样品适合在250℃对NO2进行检测，而其对NH3和NO灵敏度不高。同时他们也强调减小晶粒是提高金属氧化物薄膜灵敏度和选择性的重要方法。一些外国研究学者还采用阳极电镀法制备了单斜WO3薄膜并用其对CO、H2、NO和O2气体进行了气敏测试，结果显示薄膜在200℃时出现最高的灵敏度。
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