气相法连续制备三氧化钨纳米颗粒

三氧化钨（WO₃）是一种重要的n型半导体氧化物，有多种晶体结构，由于具有独特物理和化学性质而被广泛的研究，而且已经在电致变色、光致变色、传感和催化领域得到一定的应用。为了进一步利用WO₃的优异性能、拓宽其应用领域，最佳的技术途径便是减小其晶粒尺寸,即纳米氧化钨。

气相法是目前制备纳米结构的最有效的方法之一。通过气相沉积技术可以析出各种形态的固体，析出物的形态有薄膜、晶须和颗粒，而且气相沉积法对反应物的浓度要求不高，产物的纯度较高。但采用常规的气相沉积法，产物的产量非常有限，由于在高真空或高温下收集产物，不能实现连续生产。以APT·xH₂O为原材料，采用高温煅烧结合气相沉积技术，以氩气为载气，在低温区域收集粉末，可以成功制备了多种形貌三氧化钨纳米颗粒的连续制备。该方法包含如下步骤：

步骤1，取包含进气口与出气口的石英玻璃管，在石英玻璃管靠近出气口端的内壁环绕放置碳布，将该装有碳布的石英玻璃管横放置于管式炉中。

步骤2，使管式炉加热石英玻璃管至指定温度。

步骤3，将盛有仲钨酸铵的陶瓷坩埚推送至上述玻璃管中，使之处于加热到指定温度的恒温区，吹入氩气。

步骤4，保温40min-60min后，关闭管式炉，停止吹入氩气。

步骤5，取出碳布，收集其上沉积的反应产物，得到多形貌的纳米三氧化钨颗粒，并取出陶瓷坩埚。

步骤6，重复步骤1-5若干次：即重新在玻璃管内壁环绕放置碳布，将盛有仲钨酸铵的坩埚移至恒温区，重新开通氩气，开始下一轮反应，实现连续生产。

将高温煅烧技术及气相沉积技术结合在一起，以氩气为载气，在低温区域采用碳布收集粉末，可以连续生产多种形态的纳米级三氧化钨颗粒，解决了传统方法制备纳米三氧化钨产量低的问题。工艺操作简便，成本低，具有很大的应用前景。

• < 前へ
• 次へ >