水热合成法制取氧化钨纳米线
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- カテゴリ: 钨业知识
- 2018年6月27日(水曜)16:59に公開
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氧化钨是非常好的催化剂和高温超导材料,它还被用来制作电致变色窗户,红外开关,写读擦光学设备,气敏、湿敏和温敏元件等。同时,氧化钨纳米线具有出色的场发射性能,可作为制备WS2纳米管的结构前驱体。
制备一维氧化钨纳米材料的方法有很多,比如模板法,煅烧介孔前驱体法,有机溶液合成法,高温氧化法,以及红外线加热氧化法等。尽管一维氧化钨纳米材料的制备方法很多,但一般都存在工艺复杂、产量小等缺点。因此,有必要进一步探索新的实用的制备方法,例如有研究人员采用简单的水热方法制备,操作过程简单,原料易得,成本低廉,溶剂无毒无害环境友好,可以大量合成制备的WO3纳米线。
氧化钨纳米线的长度为几百纳米到几个微米,宽度5-20纳米。其制备方法如下:将蒸馏水与钨单质粉末混合,在高压釜中充分搅拌,反应物在423-478K温度下反应1-30天,然后过滤,在323-373K温度下干燥12-24h得到所述氧化钨一维纳米材料。
采用水热合成法可以在较低温度下和不添加任何表面活性剂和模板剂的条件下制备出了WO3纳米线,操作过程简单,原料易得,成本低廉,溶剂无毒无害环境友好,可以大量合成,制备的WO3纳米线性能优越,用途广泛,是很好的新能源材料,可用于光电催化,太阳能电池,传感器,锂离子电池和场发射等方面,适合大规模推广,具有显著的经济效益。
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