无粘结相纯碳化钨靶材

纯碳化钨粉末之间的固相烧结阻力很大，在没有粘结剂添加的情况下，很难获得致密度在99％以上的高致密度材料。目前对于纯碳化钨靶材的研究都是含有粘结相，比如 TiC、TaC和Co等粘结剂成分。

近年来，国内外研究最热的是放电等离子烧结(SPS)工艺，采用1900℃、30MPa压 力、保温5min，可以得到相对密度约98％的致密烧结体。但是SPS烧结受试样尺寸限制，稳定性差，不能满足大尺寸、批量化的工业化生产要求。

为制造无粘结相纯碳化钨靶材，需要充分掌握以下步骤：

步骤一：将纯碳化钨原料粉进行筛分处理，得到粒度均匀的纯碳化钨粉末；

步骤二，将步骤一得到的所述纯碳化钨粉末均匀填充到模具中，在真空条件下进行热压烧结处理，经冷却后，脱模得到烧结坯；

步骤三、将步骤二得到的烧结坯进行机加工得到符合尺寸和表面质量要求的所述无粘结相纯碳化钨靶材。所述靶材的晶粒均匀，平均 晶粒尺寸≤5μm，致密度可达到99％以上，纯度在99.9％以上。

上述无粘结相纯碳化钨靶材的制备方法，制备过程工艺简单、成形效果较好，利于工业化大规模生产。而且通过的不同温度区间的实验，得到的是相结构为单一的纯WC 靶材，改善了溅射过程中的打弧放电现象，制备的膜层表面缺陷较少，涂层更为致密。

• < 前へ
• 次へ >