鎢靶材

鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源，簡而言之，就是由特殊材料製成的合金膜在工作中接受高速荷能粒子的衝撞。由於鎢具有耐熱耐磨的特長，所以也被現代科技工業用來製造鍍膜靶材。

鎢靶材需使用高純度的鎢粉製造，主要外觀有平面靶材和旋轉靶材。其制法是：將鎢粉末放入包套並抽真空；採用冷等靜壓工藝將包套內的鎢粉末進行第一次緻密化處理，形成鎢靶材坯料；第一次緻密化處理後，去除包套，採用燒結工藝將靶材坯料進行第二次緻密化處理；第二次緻密化處理後，採用熱等靜壓工藝將第三次緻密化處理，最終形成鎢靶材。

鎢靶材能承受極端2000℃的高溫，品質優良，使用壽命長，所以在航太、稀土冶煉、電光源、化工設備、醫療器械、半導體行業等領域得到廣泛應用。

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