採用磁控濺射的方式摻雜Ni所得到的WOx-Ni薄膜也為非晶體，Ni都是以NiO氧化物的形式存在。在磁控反應濺射工藝下，Ni的摻雜能顯著提高氧化鎢薄膜的電致變色性能。同時摻雜Ni可以大幅度降低氧化鎢薄膜缺陷，提高迴圈的穩定性，經過高達600次著的褪色迴圈之後，氧化鎢薄膜著色態的透過率高達70％，光學動態調節能力降低為10％，已經基本失去電致變色的能力，而通過均勻方式摻雜了4％Ni的WOx-Ni薄膜著色態的透過率變為45％，光學動態的調節能力變為35％，是純氧化鎢薄膜的3倍多。最好的摻雜Ni方式是採用均勻摻雜的方式，摻量為4~7．7％，這樣才能有效地提高WOx-Ni薄膜電致變色的性能。

 

採用磁控濺射的方式摻雜V得到WOx-V薄膜能改善氧化鎢薄膜的電致變色性能，而且能提高氧化鎢薄膜記憶存儲的能力，均勻摻雜6％的V再放置24小時後氧化鎢薄膜的著色態透過率從原始的25．5％下降為38．5％，並且氧化鎢薄膜的透過率下降了50％達到75％。

 

從一般情況來說，摻雜不同的物質，會使對著色態氧化鎢薄膜的透過率造成很大的影響，通過實驗資料得出：，摻雜Ti、N、V這三種元素時，只有Ti會出現降低薄膜光學性能的狀況，而摻雜N、V這兩種元素時能從不同程度上提高薄膜的光學性能，單從提高光學性能來說V的效果是最為顯著。但不論使用哪種摻雜物來提高氧化鎢薄膜的性能，都必須遵守一條規則：摻雜量並不是越多越好，而是存在一個最佳值。