用于光电化学水分解的掺硼三氧化钨薄膜
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2021年8月20日 星期五 02:10
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在光电化学 (PEC) 水分解中,使用阳光和称为光电化学材料的专门半导体从水中产生氢气,这些半导体使用光能将水分子直接分解为氢气和氧气。氢是最有前途的清洁能源,具有非常高的重量能量密度和环境友好性。
最近关于通过光电化学 (PEC) 水分解生产 H2 的大多数研究都集中在使用用作光阳极的 n 型半导体金属氧化物材料。然而,PEC 设备的稳定性和效率较低,阻碍了它们进入市场。因此,有必要提高 PEC 水分解的光电化学性能。
据报道,硼已通过一步溶胶-凝胶法作为掺杂剂应用于纳米结构的 WO3 薄膜。科学家成功合成了硼掺杂的三氧化钨薄膜(B-WO3)用于光电化学(PEC)水分解,与未掺杂的 WO3 薄膜相比,PEC 性能大大提高了 25%。 B-WO3 光阳极已通过约 25% 的水氧化光电流得到广泛增强,在标准太阳能条件 (AM 1.5) 下,与可逆氢电极 (RHE) 相比,在 1.23 V 下达到 2.15 mA/cm2。 B-WO3的合成过程如下:
首先,使用溶胶-凝胶法形成厚度约为 1.2 μm 的纳米级 WO3 薄膜。然后,前体由(聚)钨酸(通过阳离子交换柱洗脱 Na2WO4 溶液而新鲜制备)和有机络合剂(也用作致孔剂)、低分子量聚乙二醇 (PEG) 300 组成.WO3/PEG比率为0.5w/w。硼酸 (H3BO3) 是添加到前体中的硼源,分别获得 10 at.% 和 20 at.% 的 B/W 比。掺氟 SnO2 (FTO) 导电玻璃(皮尔金顿玻璃,电阻 8-10 Ω/平方)用作基板。 FTO 样品首先用丙酮清洗,然后在去离子水中超声处理几个小时。使用刮刀技术将一些胶体前体滴在 FTO 基板上,在 100°C 的空气中干燥,随后,样品在流动的氧气中在 550°C 下退火 30 分钟。单层 WO3 的厚度为 0.35-0.45 μm;更厚的薄膜是通过连续应用前体形成的,每次都进行退火。
总之,科学家成功合成了用于光电化学(PEC)水分解的硼掺杂三氧化钨薄膜,与未掺杂的 WO3 薄膜相比,PEC 性能大大提高了 25%。在模拟太阳能 AM 1.5 光照下进行的光电化学 (PEC) 研究表明,B-WO3 光阳极的水氧化光电流显着增强,比类似厚度的未掺杂 WO3 薄膜高约 25%。
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