有专家利用TiO2晶种层作为水热生长WO3电致变色薄膜的晶种层制备得到WO3电致变色薄膜。近期，人们将水热/溶剂热法制备三氧化钨薄膜的研究重点放在了水热成膜工艺的改进上。有专家通过将TiO2替代WO3作为水热生长薄膜的晶种层，制备出了较大光调制范围和较高着色效率的水热三氧化钨电致变色薄膜。

有专家在FTO导电玻璃上制备得到一种三氧化钨薄膜，所得薄膜具有优良的光致变色性能和电致变色性能，具体地，该制备方法如下：

三氧化钨，主要是有序纳米结构的WO3，具有纳米材料的特性和突出的量子效应，在电致变色、光致变色等光电性能方面表现突出的性质，可以应用于导电玻璃上，例如，FTO导电玻璃、ITO导电玻璃、ITO/PET柔性导电基底以及玻璃与金属形成的导电玻璃等。

单斜相三氧化钨纳米片可以用于制备电致变色薄膜。所得WO3薄膜的纳米片形貌结构良好，裂纹少，即薄膜的光电性能提高了，因为界面上缺陷的减少，降低了电子与空穴复合的几率，使得电子与空穴复合几率降低，减少了电子在薄膜中传输的阻抗。以下介绍一种设备简单、操作简单可行，能满足工业化生产的三氧化钨电致变色薄膜的制备方法。

三氧化钨纳米片可以用于制备电致变色薄膜。有专家提出了一种高光电性能三氧化钨薄膜的制备方法，具体地：

纳米结构三氧化钨可以采用溅射法、水热法、溶胶凝胶法、热蒸发法、化学气相沉积法、阳极氧化法以及模板法等方法制备得到。

三氧化钨是一种重要的无机光致变色材料，在智能窗方面具有较好的应用前景。此外，WO3在光催化、大屏幕显示、高密度信息存储等领域中也具有较好的应用前景，因而，引起了科学家的广泛关注。

有专家提出一种制备形貌良好、由单斜相三氧化钨纳米片构成的具有高光电性能的WO3薄膜的方法，具体步骤如下：

高光电性能氧化钨薄膜可以采用水热法制备得到。其中，专家采用盐酸和杂多酸共同酸化。他们发现，在酸化过程中掺入少量的杂多酸就能较大幅度地提高制得的WO3薄膜的光电性能。下面主要介绍该种方法制备高光电性能WO3薄膜的具体步骤：

专家介绍了一种高光电性能三氧化钨薄膜的制备方法。该制备方法过程简单、操作便捷，所得三氧化钨薄膜形貌良好、由单斜相三氧化钨纳米片构成，具有高光电性能，应用前景广泛。