高光电性能三氧化钨薄膜

专家介绍了一种高光电性能三氧化钨薄膜的制备方法。该制备方法过程简单、操作便捷，所得三氧化钨薄膜形貌良好、由单斜相三氧化钨纳米片构成，具有高光电性能，应用前景广泛。

更多内容请访问：
http://www.tungsten-powder.com/chinese/tungsten_oxide.html

该方法是将钨酸盐溶于水配成钨酸盐溶液，再依次在所得钨酸盐溶液中加入盐酸和固体杂多酸，搅拌至无沉淀产生，形成前驱体混合液；在所得前驱体混合液中加入草酸铵作为结构导向剂，以FTO基底为载体，通过水热法在FTO基底上沉积三氧化钨晶体后，将沉积了三氧化钨的FTO基底进行煅烧，在FTO基底上制得三氧化钨薄膜。

• < 上页
• 下页 >