合成四氟氧钨有许多的方法，大致包括以下四种：第一种是通过六氟化钨（WF6）的初级水解制得四氟氧钨（WOF₄）；第二种是可以由四氯氧化钨（WOCl₄）与氟化氢反应制得；第三种是通过六氟化钨（WF₆）对三氧化钨进行氟化制得；第四种经过三氧化钨和氟化锂的熔融反应等来制得四氟氧钨。以下介绍的是目前应用最多且较为简单的方法。
制法一：首先将氟气通入温度为230~400℃的三氧化钨粉末中，反应生成气态的WOF₄会从反应容器中逐出，并凝结于加热至130℃的捕集器中。
制法二：首先将氟和氧混合，其中摩尔比为F₂：O₂=3:1。然后将其通入钨粉中，在产生WOF₄的同时也也产生少量的六氟化钨，但因六氟化钨是一种易挥发的物质，所以在室温下可以用抽真空的方法除掉。最后制得的WOF₄可以通过真空升华操作制得更纯的产品。

 

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将钨粉作为填料加入到PA基体中可以将钨材料的屏蔽性能赋予PA，成型出形状复杂的复合屏蔽材料。钨尼龙材料结合了两者的特性使其各个领域有很广泛的应用。

钨尼龙复合材料屏蔽性能计算：
物质对X射线的衰减效果常用CT值、线性衰减系数及衰减率来表示。
物质对X射线的衰减都遵循X射线衰减公式：

式中：    
I--X射线的入射光强；
I0--X射线的出射光强；
µ--线性衰减系数，cm-1
x--被测物质厚度，cm。

物质CT值满足一下公式：

式中：
µm--某物质的射线衰减系数，cm-1;
µ水--水的线性衰减系数，cm-1。

物质对X射线的衰减率为：

CT值和衰减率越大，物质对X射线的屏蔽性能越好。

钨尼龙复合屏蔽材料的CT值（X射线穿透物体后的数值）达到17500左右，已接近传统的铅屏蔽材料的CT值，钨尼龙符合材料屏蔽件对X射线的衰减率达到97%（CT值及射线衰减率越大，辐射屏蔽能力越好）。

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四氟化钨是一种红棕色或红黑色的无机化合物。它的物理性质如下所示：化学分子式：F₄W,分子量：259.83，摩尔质量：295.8336128g/mol，它容易被水解和氧化。 四氟化钨的CAS系统编号是13766-47-7，ChemSpider系统编号是123101，EC系统编号是139582。在利用六氟化钨通过化学沉积法制备制备钨薄膜的时候，四氟化钨和五氟化钨可以在该反应中起中间媒介的作用。在800℃条件的真空中会发生歧化反应生成五氟化钨和二氟化钨。F₄W主要用于有机物合成。
四氟化钨的制取方法有以下四种，一是通过使配位化合物WCl₄(MeCN)₂和AsF₃反应制得四氟化钨。二是可以在110℃条件下通过六氟化钨（WF₆）和苯反应制得。三是可以在室温下由六氟化钨和三氟化磷在液态氟化氢的存在反应生成。四是可以通过六氟化钨和钨在600-800℃下反应制取四氟化钨。

 

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四碘化钨是一种黑色的粉末（无固定熔点和沸点），CAS系统编号是14055-84-6。
它的物理性质如下所示：分子式：WI₄，分子量：691.458，相对密度：5.218，它在熔点温度下分解，不溶于冷水但是能在热水中分解，溶于乙醚、氯仿和松节油中。
它的化学性质如下所示：四碘化钨在空气中加热分解成二碘化钨和碘，且易水解和氧化。而在空气中易被吡啶、乙腈等含氮配位体化合物所还原，生成相应的配合物。
目前合成四碘化钨比较普遍的方法有以下两种：第一种可以通过碘化氢还原六氯化钨生成，第二种是通过三碘化铝和二氧化钨反应制取。

 

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