氧化钨的结构水模型是在Pt表面修饰氧化钨和氢气的反应中，Pt催化氢气脱氢产生的氢离子：一部分氢离子和氧化钨表面的氧离子反应生成水分子并从薄膜中释放出来。另一部分氢离子注入到氧化钨晶格内并与氧化钨晶格中的氧原子形成结构水分子，该结构水分子在热扰动或者光照情况下容易脱落其原来的位置，导致氧空位的出现。

氧化钨作为一种重要的半导体材料，由于其具有特殊的缺陷结构和物理化学特性被广泛地应用到气体传感、光催化、电致变色和场致发射等领域。实际制备中存在一些非化学计量比的氧化钨。

当氧化钨材料的尺寸小到纳米量级，氧化钨材料表现出的物理性质和化学性质不同于传统材料的性质和规律。纳米尺寸的氧化钨材料将会产生小尺寸效应、表面效应、量子尺寸效应和隧道效应等，从而导致声、光、电、磁和热性能呈现新的特性。

氧缺陷型氧化钨可以降解甲基橙溶液，但是该降解反应属于催化反应还是普通的化学反应，仍需要进一步验证。为了验证样品使甲基橙降解的过程是催化反应还是化学反应，可以观测氧缺陷型氧化钨经过降解实验后的晶体结构是否改变，以判断它的反应类型。