三氧化钨是一种重要的无机光致变色材料，在大屏幕显示和高密度信息存储等领域中具有广泛的应用前景。与有机光致变色材料相比，WO₃稳定性好、成本低，但其光致变色效率较差。为了提高这类无机材料的变色效率，国内外学者已经提出了各种解决方案并已取得了许多成果。

溅射法是制备薄膜材料的主要技术之一，它通过高速运动的离子轰击靶材，产生的原子放射出来累积在基体的表面，形成镀膜，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。

我国湖南的柿竹园钨钼铋多金属矿属于大型矽卡岩型多金属矿体，矿石中有价矿物含量多，嵌布关系复杂，品位都较低，主要共生钨、钼、铋、铁和萤石等二十多种矿，分选困难。如何有效分离综合回收其中的有价矿物，已成为国内外的学者专业研究的学术热点。

大规模集成电路经常使用钨靶材进行真空溅镀，尤其需要使用大尺寸的钨靶材，目前的半导体领域中，大尺寸的钨靶材的直径为300mm～450mm，厚度为6mm～15mm。可是随着半导体行业的发展，这种尺寸的钨靶材已不能满足工业需求。