整体硬质合金小模数滚刀

整体硬质合金小模数滚刀主要用于小模数齿轮加工,可加工的齿轮数为国标5-7级,适用于各类金属和非金属材质工件。按照齿轮制造工艺的不同它的齿形包括全切式和非全切式。



目 前常用整体硬质合金小模数滚刀的类型按照直径大小可分为φ25、φ32和φ40,它们对应的模数分别为0.4-1.0mm (φ25),0.4-2.0mm(φ32),0.4-2.0mm(φ40),加工精度等级包含三种:AAA级,AA级以及A级。特别 地,为了提高刀具的切削性能以及使用寿命,根据加工件的类型和刀具用途,整体硬质合金小模数滚刀可增加TiN,TiAlN涂层等。


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CVD 钨管的表面粗糙度的影响因素

由晶相检验结果可知,外来的杂质颗粒会严重影响CVD 钨管的表面粗糙度。杂质颗粒越大,影响越显著。

沉积层在有杂质颗粒存在的地方呈现放射状的柱状晶。

当杂质颗粒存在沉积基体表面时,因为杂质颗粒的存在,该部位反应气体的流动状态会发生改变,导致该部位的生长速度较快,从而获得横向生长空间,而且,这种优势还会进一步扩大。并且,最终会导致沉积表面粗糙度增大。

沉积生长晶粒间的相互干涉也会影响CVD 钨管的表面粗糙度。为改善钨管表面的光滑度,可采用在沉积过程中间断通入六氧化氟的方法。


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CVD钨管---氟化物与氯化物的对比

氟化物(WF6)CVD(化学气相沉积)与氯化物CVD的对比发现,氟化物CVD钨管的优点如下:

杂质含量低。大多数金属氟化物的沸点>1000℃。所以,在恒温条件下(20-28℃左右),WF6蒸发阶段,WF6能够实现其与其他大部分伴生杂质的分离。

还原反应:WF6 + H2 → W + 6HF (125Kj/mol)

一个标准大气压下,该反应在300℃以上就能够实现;在600℃时,该反应的平衡常数已接近1。

因为该反应所需的反应温度较低,所以可以使用一般的加热设备(如不锈钢等),这使得加热设备的制作和实际操作方便了许多。即氟化物CVD方法制取钨管阶段的选择性相对较多。

 

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CVD 钨管的表面粗糙度

钨管的表面粗糙度受沉积温度的影响显著,其粗糙度随沉积温度的升高而增加。

当沉积温度从600℃升至700℃时,钨管的表面粗糙度明显加大。所以,沉积温度应控制在600℃左右,以获得表面光洁、平整度良好的沉积钨管。

钨管的表面粗糙度主要受膜层生长表面形貌和沉积层组织的影响。若是沉积生长界面(呈现柱状晶)的稳定性较好,则膜层表面的平整度是最好的。随着温度升高到一定程度,被还原的W原子会在沉积生长界面再次形核并继续生长,也就是说,高温导致沉积层显微组织和沉积生长界面发生改变,最终导致钨管的表面粗糙程度增加。


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CVD钨管工艺原理

反应源气体:WF6  
还原气体:H2     
沉积基体:紫铜管
气压条件:常压下     

CVD(化学气相沉积)钨管工艺原理:
首先,在恒温条件下,加热WF6并待其气化后,将其通入气体混合室中使其与氢气充分混合,然后再将其通入反应室。

通过加热紫铜管使温度上升至所需的沉积温度。

WF6和H2在紫铜管表面发生化学反应,WF6被还原为W原子。这些W原子会在紫铜管表面聚集形核并长大,最终形成钨沉积层。

WF6和H2反应的化学反应式如下:

WF6 + H2 → W + 6HF (125Kj/mol) 

用气体吸收装置吸收被排出反应室的未发生反应的WF6、H2的剩余气体和生成的HF。


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