钨合金在国防建设中的作用

1.在航天工业中的应用。1960,钨合金被用于成功应用于中国研制自主研发的中国第一颗人造卫星导航设备,这种新材料率先在中国的洲际导弹和各种新型战斗机,直升机的开发中已成功投入使用。同时一种新型的密度高达18.5克/立方厘米的钨基合金被开发研制出来,以满足中国通信卫星制造的需求,并且,各种高性能钨铜合金在火箭(导弹)燃烧室,喷管,方向舵等部位得到了科学应用。

2.在军事工业中的应用。中国已成功研制出钨镍铁高比重合金,为各种磨损,聚能弹药的发展提供了关键材料。钨镍铜合金作为一种新兴材料,为中国的第一艘核潜艇陀螺转子研究和发展发挥了重要的作用。

3.在民用产业和核工业中的应用。在核电行业,用于核反应堆的绝缘和屏蔽材料,钨合金具有良好的应用前景。在民用工业中,高密度钨合金得到了越来越广泛的应用,手机和高尔夫球杆配重等,钨合金无所不在。



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Walking钨合金渔坠子

该钨合金渔坠子呈椭圆形。Walking钨合金渔坠子的顶部上有个圆孔,可穿过鱼线。渔坠子的底部比顶部更大,更宽,可承受更多的重量。底部的边缘也是呈圆弧状。

该渔坠子可轻易穿过水里的岩石,减少抽丝的概率。采用扁平状的设计也可防止渔坠子在水里滑动。

Walking钨合金渔坠子可直接使用活饵。使用该渔坠子,首先用鱼线将渔坠子扎紧。而后,选用以转接头,该转接头要足够大,这样才不会穿过渔坠子的圆孔。鱼线的另一端也需要与转接头扎紧。

最后您可以在渔坠子上挂上任何您想要的鱼饵。该渔坠子不仅可以防止抽丝,还可防止鱼类逃脱,更有利于捕鱼。

Walking钨合金渔坠子


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硬质合金密封件平面度检测

硬质合金密封件检测的目的是对其质量、可靠性、使用寿命等进行评定。
 
硬质合金密封件的平面度检测。硬质合金密封件的端面平面度不大于0.9μm,表面粗糙度Ra应小于0.01μm。要求这样高的平面度,是为了保证端面的泄漏量在允许范围内。此外,减小表面粗糙度可使承载面积增加,从而增加硬质合金密封件的承载能力。
 
密封端面平面度的检测,通常是利用光波的干涉效应来测量。可以用质量非常高的激光干涉仪或光学平晶来进行测量。前者属非接触量法,后者属接触量法。
 
硬质合金密封件的平面度检测可以为制造出厂控制质量,也可以为研究开发提供数据,从而不断进行改善,使硬质合金密封件有更高的可靠性和更长的使用寿命。
 
 
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硬质合金密封件研磨

为达到良好的密封效果,要求硬质合金密封件要有良好的表面加工质量,需要采用研磨抛光对其表面进行加工,以达到硬质合金密封环的工作要求。
 
研磨常用的磨料有碳化硼、人造金刚石粉等,磨液一般采用低粘度的煤油和清水,磨料和磨液的配比根据硬质合金密封件的硬度来调整确定。
 
研磨和抛光的操作方法主要分为手工和机械的研磨抛光,一般手工研磨用于现场维修,批量生产采用机械研磨抛光。另外,按照研磨原理分,可分为干式和湿式研磨,一般是用湿式法达到所要求的平面度后,再用干式法抛光,以达到更美观光亮的表面。
 
对于新生产的硬质合金密封环,研磨前的加工必须具有相应的精度和表面质量,这样才能保证成品最后的要求精度,以达到硬质合金密封环的工作要求。
 
 
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硬质合金双端面机械密封件

硬质合金双端面机械密封件是硬质合金密封件的一类标准件,主要用于各类机械的密封。
 
硬质合金双端面机械密封件具有耐腐蚀性、耐高温性、耐高压性、耐磨损性等一系列优良特性,能够长时间稳定可靠地工作,并且适用范围广。
 
硬质合金双端面机械密封件主要可用于轴承、各种泵、釜、油缸等,可在弱酸、弱碱等液体环境下稳定使用。工作时需要有冷却冲洗并尽快流通,另外根据具体工况条件可选取合理的摩擦副。
 
硬质合金双端面机械密封件的密封效果好,使用寿命长。
 
硬质合金双端面机械密封件
 
 
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掺Eu钨酸钙特点

掺Eu钨酸钙是以钨酸钙为基质,Eu作为激活剂两者结合制备而得的,掺Eu钨酸钙具有以下特征:

1:Eu固有的内在结构的4f-4f跃迁能级激发,使得发光材料掺Eu钨酸钙可以获得高效的跃迁红色发光,并且有很高的纯度。

2:Eu(94.7pm)的半径比钙离子(99pm)小,所以在合成过程中,Eu很容易进入钙离子的晶格位置,战区钙氧八面体的位置,使得连氧位置有所变化,基质内部产生更多的晶格畸变,使得发光效果增强。

3:Eu在钨酸钙基质中的掺杂浓度很高,甚至可以掺杂摩尔分数达到100%,却不发生浓度猝灭。这是由于基团中W-O有很强的共价键效应,导致Eu的浓度效应减弱。所以掺Eu钨酸钙的发光强度很高,并且可以承受较高功率的激发。

4:发光材料掺Eu钨酸钙的合成方法相对简单,制备过程操作简易,合成所需温度大多在700-1200℃。


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制备钨酸钙纳米晶

钨酸钙是一种典型的自激活发光材料,具有稳定的物理化学性质。由于其特有的光学性能,钨酸钙可被用作磷光体、放射强度闪烁计数材料和激光器基质材料。

制备钨酸钙纳米晶,选用钨酸钠(Na2WO4  2H2O 纯度99.5%)和硝酸钙[Ca(NO3)2  4H2O,纯度99%]为原料,去离子水为溶剂,加表面活性剂PEG200.称取适量的钨酸钠并分别溶于去离子水中,用磁力搅拌器搅拌1h,以达到完全溶解的目的。为调节反应时的pH值(pH=9)以利于反应的进行,在钨酸钠溶液中加入适量的氨水,用磁力搅拌器搅拌20min。将PEG200:H2O按2:1的比例加入到硝酸钙溶液中,用磁力搅拌器搅拌1h,以达到分散颗粒的效果。最后将钨酸钠溶液直接加入到硝酸钙溶液中,并用磁力搅拌器搅拌20min,以促进反应的进行,最后得到白色混浊液。将混浊液静置约1.5h后,可看到钨酸钙沉淀于烧杯底部,用去离子水清洗钨酸钙沉淀数遍后在100℃的环境中烘干,得到白色的钨酸钙纳米晶。


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制备钨酸钙薄膜影响因素-溶液pH值

鉴于钨酸钙薄膜只在碱性条件下才能生成,酸性条件下将形成H2WO4沉淀,其溶解度亦很小,所以我们通过实验分别选用了溶液pH值为8、10、12三个阶梯进行比较实验。

以下表格是溶液pH值对钨酸钙薄膜制备的影响:

溶液pH值 8 10 12
反应时间(h) 7 7 7
薄膜厚度(nm) 320 260 170

从以上表格数据可以看出,溶液pH值越高,反应进行的越缓慢且生长的薄膜厚度越小。当溶液pH值为12时,反应时间为7小时薄膜厚度大约170nm,而此时pH值为8和10时,溶液中薄膜厚度分别为320nm和260nm。可见相同反应时间下,薄膜生长虽然同时处于快速生长阶段但在pH值高的溶液中,生长的薄膜仍较pH值低的环境下生长的薄膜厚度小,且生长缓慢。


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制备钨酸钙薄膜影响因素-反应温度

我们知道反应温度对化学反应的影响一般都是从热力学角度产生影响的,使用化学浴沉积方法制备钨酸钙薄膜也不例外。

以下表格是反应温度对钨酸钙薄膜制备的影响:

反应温度(℃) 40 60 80
反应时间(h) 7 7 7
薄膜厚度(nm) 75 175 250

从以上表格数据可以看出,薄膜的厚度随反应温度的变化而变化。反应温度为80℃时,反应进行的快且薄膜的后的增长速度比温度40℃和60℃的生长快的多,这说明提高反应温度可有效提高环境提供给制备过程的能量。随着温度的提高会在衬底上形成更多的晶核,从而使得反应更容易朝着生成钨酸钙薄膜的方向进行,达到薄膜生长的目的。


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制备钨酸钙薄膜影响因素-溶液浓度

制备钨酸钙薄膜不仅受到螯合剂的影响,同时也深受溶液浓度的影响。

以下表格数据是溶液不同浓度下制备的钨酸钙薄膜的厚度:

溶液浓度(mol/L) 0.05 0.10 0.20
薄膜厚度(nm) 100 300 350
水浴温度(℃) 80 80 80

从以上表格数据可以得出结果:当其他反应条件一致时,溶液不同浓度下制备的钨酸钙薄膜厚度不同。当溶液浓度为0.05mol/L,水浴温度为80℃时,衬底上几乎没有薄膜形成,或形成的薄膜厚度及其的薄,溶液中也几乎无沉淀生成。而溶液浓度为0.10mol/L和0.20mol/L,水浴温度为80℃时,同样可以形成薄膜,但,后者形成的薄膜表面明显存在颗粒状物质且溶液中沉淀很多。本着保证钨酸钙薄膜质量的前提下节省原料的原则,最终选定的溶液溶度应为0.1mol/L。


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