钨铜薄片的制备

钨铜合金因有铜的优良导热性和钨的低膨胀系数,而常用作微电子的热沉与封装材料。通过调配钨、铜的比例,可以使材料与芯片更匹配。另外,该合金还有强度和刚度好,可焊性佳的特点。然而,由于现有生产方法存在效率低、成品高级产品质量一般的缺点,所以下文将介绍的是钨铜薄片新的制备方法。具体步骤如下:

钨铜薄片的制备图片

1)钢模压制成型:将钨铜弥散粉用液压机钢模压制成型,得到钢模成型压坯;

2)冷等静压复压:将钢模成型压坯在冷等静压机中复压处理,得到复压坯;

3)高温烧结:将复压坯放在氢气氛钼丝炉中高温烧结,得到烧结坯;

4)热乳:将烧结坯用两辊乳机热乳,后进行退火处理,根据烧结坯厚度重复热乳和退火步骤,得到退火态热乳钨铜板材,再对退火态热乳钨铜板材进行表面处理;

5)温乳:将退火态热乳钨铜板材进行温乳,后进行退火处理,得到退火态温乳钨铜板材;

6)冷乳:将退火态温乳钨铜板材进行冷乳处理,最后退火、压平,即可得到钨铜薄片。

钨铜薄片的制备图片

该生产方法注意事项:

(1)步骤4)热乳的加热温度为600—1050°C,加热设备为钼丝炉,保护气氛为H2或者分解氨混合气,加热温度由钨铜比例决定,钨含量高则加热温度高;

(2)步骤4)或步骤5)的退火温度为800—1350°C,退火时间30-60分钟;

(3)步骤5)的温乳加热温度为400—600°C;

(4)步骤6)的冷乳加热温度为400—600°C,退火温度为800—1050°C,退火时间30—60分钟。

使用该技术生产出来的材料具有显微组织均匀、致密、气密性合格的特点,幷且生产效率高,材料利用率高,成本较低。

 

 

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