近红外屏蔽材料用铯钨青铜

据悉，传统上，近红外屏蔽材料用铯钨青铜的制备方法通常需要较高的反应温度和苛刻的反应条件。其中，常用的高温还原反应法为获得还原气氛通常需要在高温过程中通入（H2+N2）混合气。

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最近的研究报道指出，以氯化钨和氢氧化铯为原料通过溶剂热反应可合成具有较好近红外遮蔽性能的铯钨青铜。然而，氯化钨和氢氧化铯原料成本高，并且具有易挥发、易水解、稳定性差、对人体和环境有害以及不易操作等缺点。因此，专家提出了一种以易操作的钨酸钠和碳酸铯为原料通过低温溶剂热反应合成铯钨青铜的工艺方法，适用于铯钨青铜的大规模生产。

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