高光电WO3薄膜

有专家提出一种制备形貌良好、由单斜相三氧化钨纳米片构成的具有高光电性能的WO3薄膜的方法,具体步骤如下:

高光电WO3薄膜图片

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第一步:称取0.7mmol K2WO4·2H2O溶于30mL去离子水中,室温搅拌下逐滴加入6mL 3MHCl溶液,再加入硅钨酸,加入硅钨酸的摩尔量是钨酸钾的15%,搅拌至白色沉淀不再增加;

第二步:加入1.8mmol (NH4)2C2O4作为结构导向剂,补加去离子水至溶液总体积为70mL,继续搅拌0.5h。

第三步:将预先清洗好的FTO导电玻璃倾斜放入反应釜内衬中。

第四步:将第二步所得溶液移入反应釜中,密封后放入鼓风干燥箱中,于180℃下水热反应16h,自然冷却至室温。

第五步:取出导电玻璃,用去离子水清洗,于烘箱60℃下干燥,在600℃煅烧0.5h,制得三氧化钨薄膜。

 

 

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