高光电WO3薄膜

有专家提出一种制备形貌良好、由单斜相三氧化钨纳米片构成的具有高光电性能的WO3薄膜的方法，具体步骤如下：

更多内容请访问：
http://www.tungsten-powder.com/chinese/tungsten_oxide.html

第一步：称取0.7mmol K2WO4·2H2O溶于30mL去离子水中，室温搅拌下逐滴加入6mL 3MHCl溶液，再加入硅钨酸，加入硅钨酸的摩尔量是钨酸钾的15%，搅拌至白色沉淀不再增加；

第二步：加入1.8mmol (NH4)2C2O4作为结构导向剂，补加去离子水至溶液总体积为70mL，继续搅拌0.5h。

第三步：将预先清洗好的FTO导电玻璃倾斜放入反应釜内衬中。

第四步：将第二步所得溶液移入反应釜中，密封后放入鼓风干燥箱中，于180℃下水热反应16h，自然冷却至室温。

第五步：取出导电玻璃，用去离子水清洗，于烘箱60℃下干燥，在600℃煅烧0.5h，制得三氧化钨薄膜。

• < 上页
• 下页 >