电致变色薄膜用三氧化钨纳米阵列

三氧化钨纳米阵列可以用于制备电致变色薄膜，进而应用于建筑智能窗，应用前景广泛。而该种薄膜的制备可以通过下列步骤实现：

更多内容请访问：
http://www.tungsten-powder.com/chinese/tungsten_oxide.html

1.0将FTO导电玻璃分别用丙酮、去离子水和乙醇超声清洗10分钟，用氮气吹干净，得到清洁干净的FTO导电玻璃；

2.0将过量的5mol/L的浓盐酸滴入2mol/L的钨酸钠水溶液中，至无新的沉淀产生，用去离子水洗涤沉淀，洗涤后得到白钨酸，将获得的白钨酸溶于过氧化氢的质量百分数为20%的过氧化氢水溶液，白钨酸与过氧化氢水溶液中过氧化氢的摩尔比为1:2，加去离子水配制成含钨浓度为5mol/L的过氧化钨酸溶液，在4℃冷藏待用；

3.0把步骤2.0中的过氧化钨酸溶液用旋涂仪以2000r/min的速度在清洁干净的FTO导电玻璃的导电面上旋涂40s，再放入400℃的箱式炉里保温5分钟，重复旋涂三次，得到覆盖有晶种层的FTO导电玻璃；

4.0将六羰基钨加入到70ml无水乙醇溶液中搅拌，得到六羰基钨的浓度为0.05mol/L的前躯体溶液；

5.0以步骤3.0中的覆盖有晶种层的FTO导电玻璃为基底，并将基底垂直竖立并固定于反应釜聚四氟乙烯内胆中，然后将步骤4.0制备的前驱体溶液倒入反应釜中，将反应釜在250℃干燥箱中恒温反应8h，反应完成后,从反应釜取出，用自来水冷却，然后用去离子水冲洗后真空干燥，再在箱式炉中350℃热处理3h得到三氧化钨纳米阵列电致变色薄膜。

• < 上页
• 下页 >