锂掺杂氧化钨薄膜

较之氧化钨薄膜，锂掺杂氧化钨薄膜的致密度有了极大的改善，从其SEM图可以看到薄膜表面的缺陷减少，孔洞几乎消失。有专家采用扫描电镜放大5.5K倍后对几个薄膜样品表面情况进行测试，如下图，其中，图（a）为图（d）的横截面图。

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上面的几个样图作为代表，能够很明显地体现出高氯酸锂掺杂之后，三氧化钨薄膜的表面情况。图（b）样品表面致密好，但是存在较多的白色颗粒，很可能是在掺杂时候高氯酸锂在溶胶中的沉聚所造成。图（c）样品表面并无白色颗粒残留，但是薄膜存在少量孔洞并出现裂痕，即此配比下，薄膜的应力不均匀。图（d）样品表面光滑致密，无明显残留物，表面性能优良。此外，经检测发现，各薄膜横截面厚度基本一致。

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