掺杂WO3薄膜

掺杂WO3薄膜可以采用电子束蒸镀法制备得到。其中，电子束蒸镀法是蒸发镀膜法中的一种，而后者又属于物理气相沉积法中的一种。有专家以WO3和CNT的混合粉末为原料，采用电子束蒸镀法在Al2O3基板上制得NWCNT掺杂WO3薄膜。

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专家表示，物理气相沉积是实验室中较为广泛采用的制膜方法，与其他方法相比，其合成薄膜的速度较快，薄膜纯度较高，表面均匀性较好，且可将一些高熔点反应物用于掺杂WO3薄膜的制备，但反应仪器成本较高，因而不适用于规模化制备薄膜材料。专家还讲到，电子束蒸镀的原理是利用高能电子束对靶材表面进行轰击，使材料表面产生极高的温度，从而使材料由固态直接升华到气态，并沉积到工件表面形成薄膜。

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