钨具有高熔点、抗蚀性和抗辐射等一系列优点，广泛地应用于电子、医疗、钢铁冶金等行业。钨精矿经过处理后得到的是Na2WO4溶液，溶液中含有一定的杂质，必须对其提纯才能得到高纯钨。对于纯钨的制备，国外发展较早，尤其是日本，早在20世纪40年代就开始研究与生产高纯钨。我国在制备高纯钨方面发展较晚，目前还与国外存在一定的差距。

 

目前我国对高纯钨的制备主要分为两个步骤进行。第一步化学提纯，主要通过化学方法制备高纯仲钨酸铵；第二步物理提纯，通过物理方法对高纯仲钨酸铵制取的钨粉进一步提纯。

 

化学提纯方法主要有沉淀法、溶剂萃取法、离子交换法等。沉淀法是根据物质溶解度的不同，通过控制溶液条件使溶液中的化合物或离子分离的方法。溶剂萃取法是分离钨钼的一种有效方法。而在用沉淀法与溶剂萃取法之后，得到了含钼量很少的仲钨酸铵，这时采用离子交换法可以去除其中的P、Si、As类杂质阴离子，同时也进一步除去钼。

 

物理提纯方法主要有真空法和区域熔炼法。真空法主要指真空脱气、真空蒸馏和高真空电子束熔炼法，原理主要是利用真空环境，在不同的温度下，杂质选择性地挥发或冷凝，从而达到提纯的目的。区域熔炼法是通过局部加热狭长料锭形成一狭窄的熔融区，并移动加热使此熔融区按一定方向沿料锭缓慢移动，利用杂质在固相与液相中的平衡差，在反复熔化和凝固过程中，杂质便偏析到固相或液相中而得到富集或重新分布。经真空法提纯后的钨，再通过区域熔炼法即可得到理想的纯度。