氧化钨氢还原如何设定氢气流量

用氧化钨制取钨粉是一个相当复杂的物理化学过程，尤其是超细钨粉，细节的做不到位往往会功败垂成，前功尽弃，达不到想要的效果。

在氧化钨的氢还原过程中，氢气是通过炉管进入炉内与氧化钨发生反应，从所周知，钨氧化物会与水蒸气形成 WO₂(OH)₂，，这种化合物在 500~700℃时已经有较大的蒸气压，就会在还原产物上被H₂还原，从而使颗粒变粗，另外，水蒸气又会将 W 粉氧化，这些氧化后的产物又会在氧化钨的表面被还原，从而使这些颗粒变粗，这些增粗的颗粒在进一步被还原时，又会得到较粗的钨粉。

如何杜绝或减少以上事件发生的机率？这就需要设定好还原炉内的氢气流量。

在还原炉中，H2流量小，反应慢，氧化钨在低温下就不能被完全还原成W 粉，而在高温下氧化钨又会快速挥发，就会导致氧化钨蒸气增多，气态水合氧化钨 WO₂(OH)₂生成多，细 W 粉就会被再次氧化，导致钨粉的粒度变粗，所以，要得到粒度较细的钨粉，就有必要加大氢气流量，随着氢气流量的增大，钨粉的粒度不断减小，因此，制备超细钨粉时应采用比普通钨粉更大的氢气流量。

但是，氢气流量也不能过大，否则气流会将大部分物料带走，造成极大的浪费，一般来说，氢气的过量范围在理论量的2.5-40倍之间，但如何能拿捏到位，做到不多不少刚刚好就完全依赖于生产实践和经验了。

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