WO3基半导体NO2气体传感器研究进展
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2016年7月25日 星期一 17:26
- 作者:chunyan
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最早发现并报道三氧化钨对二氧化氮的气敏性质是在1991年,Aliyama等发现了三氧化钨在300°C时是检测二氧化氮的良好敏感材料。二氧化氮在三氧化钨表面的反应机理为:当二氧化氮到达三氧化钨表面时,由于NO2亲电子能力比吸附氧强,NO2就会从吸附氧离子中或从三氧化钨导带中夺得电子,从而使得WO3表面耗尽层宽度及势垒高度提高,WO3导电率下降,电阻升高。
传统的制备三氧化钨基半导体NO2气体传感器的方法是溶胶-凝胶法,这种方法制备的传感器对二氧化氮的灵敏度较高,但是其响应恢复慢,并且难以控制加入的浓盐酸的量。另外,有研究提出气相反应法和改进的溶胶-凝胶法,得到对低浓度二氧化氮有非常高的灵敏度、响应恢复速度快的纳米三氧化钨NO2气体传感器。此外,也有利用热喷涂法制备三氧化钨气敏层的报道,其对低浓度的二氧化氮气体展现出良好的响应性。
近年来,物理气相沉积法也被广泛应用于三氧化钨基气敏层的制备,李伟等利用磁控溅射制备了平均粒径小、比表面积大的三氧化钨薄膜,显著提高了三氧化钨对二氧化氮气体的灵敏程度,具有良好的选择性;赵岩等采用脉冲激光溅射技术沉积三氧化钨薄膜,经热处理,得到具有三斜晶系的三氧化钨薄膜,其灵敏度随着工作温度的降低不断提高,但是响应和恢复时间延长了。
另外,低维纳米材料,如纳米片、纳米线、纳米管等三氧化钨气敏传感器,不仅增加气敏元件的比表面积,还可以控制材料的暴露面,使得WO3基NO2气体传感器具有良好的响应,改善灵敏度。
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