防水膜用钨坩埚

随着光学应用领域的不断发展，光电产品的应用范围越来越广，对产品的要求也逐渐提高。在真空镀膜过程中，无机材料在电阻加热或电子枪高能轰击下，成为蒸汽在基片表面冷却沉积。因为膜层的微观结构是不平坦的，而且在蒸汽在沉积时存在大量的毛细空隙，从而导致镜片表面容易有灰尘，水，油污的吸附，这样会容易刮伤产品的表面，影响产品的光学性能。因此，用钨坩埚制备防水膜可以在一定程度上克服这一缺陷。

首先将高纯度和无定形的氧化物原料作为载体，然后将这种氧化物原料放在室温下通过胶黏剂经过冷压或者热压的加工制备成所要求的形状。所得的半成品放入钨坩埚中，将钨坩埚放入常压高温炉里面，将温度升到850-1500℃进行热处理。在热处理的情况下，通过相变制备出形状均匀的多孔氧化物载体材料。最后将含有有机氟硅化合物的防水材料溶液滴到多孔氧化物载体材料中，最终形成防水膜。

钨坩埚作为半成品的载体进行热处理时，得益于其较高的熔点沸点，热传导率大，因此，在加热时所需要的时间较少。该操作简单方便，还可以进行大批量的生产。二氧化硅等氧化物载体材料在使用后不需要特别注意它的回收工作，厂家可以按一般废弃物处理就行。钨坩埚制成的防水膜成本低，耗时少，性能也比较高，而且生产过程中不会对环境造成很大的影响。

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