仲钨酸铵制备稀土离子掺杂闪烁薄膜
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2016年3月15日 星期二 18:28
- 作者:chunyan
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无机闪烁材料是一种新型光功能材料,它在吸收X-射线、射线或其它高能粒子的能量后会发出紫外或可见光。闪烁材料的一个重要应用是与光电倍增管(PMT)、硅光二极管(Si-PD)或 CCD探测器耦合制成闪烁计数器,成为高能物理、核物理和核医学中的一个重要探测仪器。静态成像用闪烁材料通常有三种形式:单晶、透明陶瓷和薄膜。仲钨酸铵(APT)是制备无机闪烁材料的一种重要原材料,其掺杂入稀土离子,提高性能。
仲钨酸铵制备稀土离子掺杂闪烁薄膜,步骤如下:
1.将APT溶于去离子水中,形成APT水溶液;
2.加入络合剂—柠檬酸,混合均匀得到含钨元素的第一前驱体液,并控制pH值在7-10之间;
3.向含有可溶性Eu盐、可溶性Ln盐的水溶液或水与醇的混合液中,加入络合剂混合均匀得到含Eu、Ln的第二前驱体液,其中Ln为Y、Lu、Gd、La中的至少一种,并控制pH值在2-4之间;
4.将含钨的第一前驱体与含Eu、Ln的第二前驱体混合均匀,搅拌得到前驱体透明溶胶,其中Eu、Ln的浓度之和为0.02-2.0mol/L;
5.步骤4得到的前驱体透明溶胶通过旋涂或提拉法在衬底上形成前驱体膜;
6.前驱体膜于400-700℃预烧;
7.再置于700-1000°C环境下进行退火处理,得到稀土离子掺杂的仲钨酸铵闪烁薄膜。
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